蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 所鍍產(chǎn)品圖程，形成薄膜。


建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求，而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和很大限度阻止室內(nèi)熱量外流的要求。在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃，這種工藝在汽車玻璃上有很好的應(yīng)用。


東莞真空電鍍?yōu)R射工藝的膜層結(jié)合力強(qiáng)，在真空電鍍加工過程中，有部分電子撞擊到基材表面，表面原子，并且產(chǎn)生清潔的作用，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個數(shù)量級，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時，有更多的能量可以傳遞到基材上，產(chǎn)生更多的熱能，使被電子的原子加速運(yùn)動，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜，加強(qiáng)了膜層與基材的結(jié)合力。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜機(jī)真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。