真空鍍膜是指鈦、金、石墨、晶體等金屬或非金屬、氣體等材料在真空中濺射、蒸發(fā)或離子鍍在基體上的表面處理工藝。真空鍍膜與傳統(tǒng)化學鍍法相比，具有無污染環(huán)境、環(huán)保環(huán)保、對操作人員無危害、膜厚牢固、致密、耐腐蝕性強、膜厚均勻等優(yōu)點。

真空鍍膜加工表面的清洗解決很關鍵，會直接危及到電鍍工藝的產(chǎn)品質(zhì)量。加工件進到真一定要保證鍍之前清洗干凈，表面污染來源于產(chǎn)品工件在加工、傳送、包裝過程中所黏附的各種各樣粉塵、潤滑油、 汽車機油、拋光蠟、植物油脂、汗?jié)n等物。

膜層具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點、表面細膩光滑并富有金屬光澤同時顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.2μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ～ 2μm ，因此真空鍍膜廠家可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能。膜層抵抗力強，在常規(guī)環(huán)境下具有、，不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷，且可鍍材料廣泛，與基體結合力強。

鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝，目的就是為了在實際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護層。這項工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術經(jīng)濟效益。