與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質(zhì)結(jié)合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢1．微弧氧化工藝穩(wěn)定可靠，設(shè)備簡單，反應(yīng)在常溫下進行，操作方便，易于掌握。微弧氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡單，對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。微弧氧化技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)中應(yīng)用匯越來越廣泛。

微弧氧化技術(shù)的特點

1、大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在 1000 至 2000hv ，高可達 3000hv ，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

2、有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達 100m ω。

3、溶液為環(huán)保型，符合環(huán)保排放要求。

4、工藝穩(wěn)定可靠 , 設(shè)備工藝簡單， 。

5、 反應(yīng)在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

       微弧氧化膜層生長發(fā)育時，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽極處理膜。當(dāng)擴大反映電壓時，膜層厚度會進一步增加，再次增加電壓，厚度會隨著增加。可是當(dāng)反映電壓增加到一定水平時，膜層會因為不可以承擔(dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、效率高、效果強、適合規(guī)模生產(chǎn)，又對環(huán)境污染小，因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因為處于富氧自然環(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。另外因為是在鋰電池電解液中，熔化物將一瞬間冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長發(fā)育。 微弧氧化生產(chǎn)商、微弧氧化電源