頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高i精度絕i對反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)）

1點1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外）

區(qū)域傳感器的安全機制

易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析

獨立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求

支持各種自定義

測量項目：

絕i對反射率測量

多層膜解析

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

大塚電子（蘇州）有限公司主要銷售用于光學(xué)特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學(xué)特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢！

硬涂層膜厚度的測量[FE-0004]

近年來，使用具有各種功能的高i性能薄膜的產(chǎn)品被廣泛使用，并且根據(jù)應(yīng)用不同，還需要提供具有諸如摩擦阻力，抗沖擊性，耐熱性，薄膜表面的耐化學(xué)性等性能的保護(hù)薄膜。通常保護(hù)膜層是使用形成的硬涂層（HC）膜，但是根據(jù)HC膜的厚度不同，可能出現(xiàn)不起保護(hù)膜的作用，膜中發(fā)生翹曲，或者外觀不均勻和變形等不良。 因此，管理HC層的膜厚值很有必要。

考慮到表面粗糙度測量的膜厚值[FE-0007]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。