濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進行研磨作業(yè)時物料的含水量不超過4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進行研磨，適當添加分散劑等助劑幫助研磨進行。濕法研磨機時物料含水量超過50%時，可克服粉塵飛揚問題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時設備的磨損也較嚴重。機械干法研磨較難獲取亞微米級別的粉體，化學制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細粉體的一個重要手段。從實際應用來看，這兩者之間并沒有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實際的產(chǎn)品特點及經(jīng)濟效益來選取適當?shù)奶幚矸椒ā?/p>

平面拋光研磨機的性能受到哪些挑戰(zhàn)

平面拋光研磨機的性能受到哪些挑戰(zhàn) 平面拋光研磨機適用于各種材料研磨拋光，在光學玻璃、石英晶片、硅片、LED藍寶石襯底等要求超薄工件的領域中作用突出?；ヂ?lián)網(wǎng)的生活將人們的衣食住行緊緊地聯(lián)系在一起，進而對手機的需求越來越大，而平面拋光研磨機行業(yè)也正在不斷發(fā)展。 然而，隨著對研磨產(chǎn)品的性能要求不斷提高，平面拋光研磨機性能也在不斷受到挑戰(zhàn)。具體來說，石英晶片、硅片等要求厚度越來越薄，為了提高振蕩頻率。而藍寶石襯底片為了利于散熱也在要求厚度變薄，手機零件方面對工件的精度、光潔度要求也越來越高。 總而言之，平面拋光研磨機要應對這些挑戰(zhàn)，廠家一方面要改善設備的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技術。

鏡面拋光機的拋光罩作用與廣泛用途

鏡面拋光機的拋光罩作用與廣泛用途 鏡面拋光機的拋光罩及蓋的作用：可防止灰土及其他雜物在機器不使用時落在拋光織物上而影響使用效果,廣泛用于紡織器材專件、機械零件、電子元件、不銹鋼專件、、手機配件、精密件、電器元件、儀表儀器、輕工、航天、汽車零部件、軸承、工具、鐘表、自行車零件、摩托車零件、五金沖壓件、餐具、液壓件、氣動件、縫紉機配件、工藝品等行業(yè)的中小型精密工件去毛刺、倒棱角、倒圓、去飛邊、除銹、去氧化皮及去除加工紋痕等表面光亮拋光,有效提高表面粗糙度。 鏡面拋光機的是一種電動工具，拋光機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動機固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電動機通過底座上的開關接通電源起動后，便可用手對試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動的拋光盤上進行拋光。拋光過程中加入的拋光液可通過固定在底座上的塑料盤中的排水管流入置于拋光機旁的方盤內(nèi)。