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真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜應(yīng)用

真空蒸鍍金屬是繼電鍍等表面處理法之后，根據(jù)對(duì)包裝和裝飾材料膜類(lèi)的表面處理的需要而發(fā)展起來(lái)的一種頗具生命力的、可適用于多種被蒸鍍基材的表面處理工藝。1先采用的方法是將金屬加熱汽化后，再冷凝在基材上。工藝過(guò)程全部在抽成一定真空(例如其剩余壓力為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的1/1000000)的密閉容器中進(jìn)行。另外，要求其被蒸鍍的基材表面必須極平整潔凈，使附著面積和附著力完全符合要求，以保證所鍍金屬制品的表面質(zhì)量。

目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料，但是在包裝技術(shù)領(lǐng)域中用得廣、普遍、且有實(shí)用經(jīng)濟(jì)價(jià)值的應(yīng)首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。

近已開(kāi)發(fā)的新一代的轉(zhuǎn)移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過(guò)去國(guó)外以及目前國(guó)內(nèi)大部采用直接法進(jìn)行真空鍍金屬工藝，其缺點(diǎn)是耗金屬量相對(duì)較多;對(duì)基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時(shí)，除對(duì)作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外，因紙含水量較多(10%左右)，在高真空和較高溫度下易失水變脆，使工藝更加復(fù)雜，產(chǎn)品成本也相應(yīng)提高。

以上兩種方法目前存在的問(wèn)題是均不能連續(xù)生產(chǎn)。只能在真空爐中逐爐進(jìn)行批量生產(chǎn)。這是當(dāng)今國(guó)外工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家正在研究的課題，并且在諸如日本、美國(guó)等國(guó)家已開(kāi)發(fā)了設(shè)備較為龐大的真空鍍金屬包裝用膜的連續(xù)生產(chǎn)線。這無(wú)疑是包裝技術(shù)和設(shè)備方面的一大突破。