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真空箱氦檢漏系統(tǒng)的用途和特點(diǎn)「在線咨詢」

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發(fā)布時(shí)間:2021-07-08 06:45  






氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展二

電力行業(yè)

SF6高壓開(kāi)關(guān)和氧化鋅避雷器是發(fā)電廠及野外輸變電的重要組成部分,往往因泄漏造成大面積或局部停電,影響工業(yè)生產(chǎn),又妨礙人們的正常生活。因此帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)損失有時(shí)是難以估量的。

1)高壓開(kāi)關(guān)在連箱是鋁鑄件,往往容易有砂眼,且漏孔結(jié)構(gòu)復(fù)雜,不易清洗。一般采用檢漏盒或氦罩法,即把被檢件抽真空,然后向罩內(nèi)充入氦氣,等待一定時(shí)間,確定總漏率的大小。因氦氣的用量小,檢測(cè)靈敏度就高。

2)氧化鋅避雷器,是根據(jù)電壓高低要求,采用不同截面積、不同厚度和不同數(shù)量的氧化鋅片,裝在瓷套中,充入氮?dú)夂竺芊狻S捎跈z漏技術(shù)的應(yīng)用,提高了檢漏靈敏度,彌補(bǔ)了吸入法檢漏時(shí)儀器靈敏度低的不足。其工作原理是在高壓輸出中如遇雷擊,氧化鋅片電阻變小,大電流對(duì)地短路,輸電線路被保護(hù)。如果泄漏造成內(nèi)外沒(méi)有壓差,外部潮濕氣體有可能進(jìn)入,而破壞氧化鋅片特性,造成爆1炸。

3)電力行業(yè)中,電廠的檢漏、高壓變壓器、高壓電容器、高壓開(kāi)關(guān)管及其它元器件也都相應(yīng)的采用氦質(zhì)譜檢譜檢漏儀,用不同方法進(jìn)行檢漏。

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氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量數(shù)據(jù)處理

漏率的溫度修正

標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響,溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ,所以如果實(shí)際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中溫度不一致,需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來(lái)計(jì)算,并在測(cè)試結(jié)果中加以說(shuō)明,修正方法如下:

方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中的漏率修正至實(shí)際環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中的漏率加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值;

方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值。

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氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)

氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測(cè)量原理,實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測(cè)量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時(shí),示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì)從漏孔泄出,泄漏出來(lái)的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識(shí)別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號(hào)值。在獲得氦氣信號(hào)值的基礎(chǔ)上,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對(duì)的方法就可以獲得漏孔對(duì)氦泄漏量。無(wú)源器件檢漏原因:光無(wú)源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分,也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。

根據(jù)檢漏過(guò)程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)。

真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。光無(wú)源器件對(duì)密封性的要求極高,如果存在泄漏會(huì)影響其使用性能和精度,光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于5×10-8mbar。



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