氮化鈦具有熔點(diǎn)高，化學(xué)穩(wěn)定性好，硬度大，導(dǎo)電、導(dǎo)熱和光性能好等良好的理化性質(zhì)，使其在各個(gè)領(lǐng)域都有著非常重要的用途，尤其是在新型金屬陶瓷領(lǐng)域和代金裝飾領(lǐng)域方面。工業(yè)對(duì)氮化鈦粉末的需求越來越多，氮化鈦?zhàn)鳛橥繉觾r(jià)格既低廉又耐磨耐腐蝕，它的好多性能都優(yōu)于真空涂層。氮化鈦的應(yīng)用前景非常廣闊。

其主要應(yīng)用于以下幾個(gè)方面：

（1）氮化鈦生物兼容性高，可以應(yīng)用于臨床醫(yī)學(xué)和口腔醫(yī)學(xué)方面。

（2）氮化鈦摩擦系數(shù)較低，可作為高溫潤(rùn)滑劑。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對(duì)應(yīng)于三類PVD技術(shù)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備還具有三種類型：真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)，真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。在過去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機(jī)通常是指真空離子鍍膜機(jī)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

有70多種元素、50多種無機(jī)化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現(xiàn)象r.若把零件放在靶材附近酌適當(dāng)位置上，則從靶材飛出的原子便會(huì)沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點(diǎn)金屬、合金、半導(dǎo)體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對(duì)刀具材料的抗彎強(qiáng)度無影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對(duì)硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對(duì)環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，真空PVD鍍膜技術(shù)在壓鑄模具中的運(yùn)用真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對(duì)鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右， 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制