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多數(shù)的電鍍廢水采用化學(xué)沉淀法。按照對(duì)電鍍廢水處理方式的不同,電鍍污泥分為混合污泥和單質(zhì)污泥兩大類。目前,大多數(shù)電鍍企業(yè)的廢水經(jīng)過處理后得到的多是混合污泥。針對(duì)電鍍污泥的特點(diǎn)及其危害性,從環(huán)境污染防治和資源循環(huán)利用的角度考慮,污泥熱干化解決了污水污泥的減量化、無害化的有效途徑。始終將用戶的需求擺在企業(yè)發(fā)展的位,憑借的設(shè)計(jì)實(shí)力和豐富的制作經(jīng)驗(yàn)團(tuán)隊(duì)研發(fā)定制出閉式循環(huán)槳葉干燥機(jī)。
下面來講講槳葉干燥機(jī)和圓盤槳葉干燥機(jī)的比較
耐磨和安全性。中國(guó)污泥的含沙量約比發(fā)達(dá)國(guó)家多一倍,因此設(shè)備選型應(yīng)充分考慮耐磨性。槳葉干燥機(jī)的空心栔形槳葉是壓力容器,內(nèi)部有0.3~1.3MP的壓力,是設(shè)備的結(jié)構(gòu)件。由于對(duì)污泥有切割作用,運(yùn)行一段時(shí)間后必然導(dǎo)致磨損,發(fā)生導(dǎo)熱油或蒸汽泄露(如采用導(dǎo)熱油為熱源,可能導(dǎo)致安全事故?。?,從而增加設(shè)備維修費(fèi)用、降低運(yùn)行時(shí)間和使用壽命;同樣作為壓力容器,圓盤干燥機(jī)的盤片也是結(jié)構(gòu)件,內(nèi)部有0.3~1.3MP的壓力,盤片對(duì)污泥完全沒有切割力,因此不易磨損,對(duì)污泥的推動(dòng)和攪拌是靠盤片邊緣的推進(jìn)攪拌器(小片鋼板,靠螺栓固定在盤片邊緣,非結(jié)構(gòu)件)的作用,更換方便,維修費(fèi)用低;
現(xiàn)階段我國(guó)大多數(shù)城市污水處理廠都采用活性污泥法,在運(yùn)行中會(huì)產(chǎn)生大量的剩余污泥,經(jīng)常規(guī)方法濃縮脫水后,能使污泥的含水率從99%左右降到70%~85%,然后外運(yùn)處置。
脫水污泥的含水率不能滿足污泥處置的要求:如作為肥料或土壤改良劑用于土地利用,泥餅水分偏高,不利于分散和裝袋運(yùn)輸,需要含水率降為20%~40%;如直接填埋,則脫水泥餅體積大,填埋場(chǎng)土地容積利用系數(shù)低,土力學(xué)性能差,滲瀝液量大,需要含水率<60%;如脫水泥餅直接焚燒,也因含水率>50%,熱值不足以維持燃燒,需加入輔助燃料,使處理成本增加。因此,進(jìn)一步降低脫水污泥含水率是解決以上問題的關(guān)鍵。
設(shè)備安全
在老式干燥器里,起火或相當(dāng)頻繁,令污泥干燥設(shè)備的安全性能倍受置疑?,F(xiàn)在,起火或的大部分原因已經(jīng)明確,與有關(guān)的三個(gè)主要因素是氧氣、粉塵和顆粒的溫度。不同的工藝報(bào)道或許會(huì)有些差異,但總的來說必須控制的安全要素是:氧氣含量<12%; 粉塵濃度<60g/m3; 顆粒溫度<110 ℃?,F(xiàn)在的污泥干化技術(shù)都非常重視設(shè)備的安全性,并針對(duì)性地采取了措施來完善設(shè)計(jì)和加強(qiáng)管理。對(duì)于控制氧氣的含量,間接加熱器如西格斯的干燥設(shè)備還附加了氮?dú)獗Wo(hù)來確保系統(tǒng)內(nèi)氧氣含量<2%; 直接加熱器,如安德里茲的轉(zhuǎn)鼓則如前所述,通過氣體循環(huán)使用來控制氧氣含量<8%。系統(tǒng)內(nèi)氧氣含量的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)是非常重要的,在安德里茲的系統(tǒng)內(nèi)設(shè)置了氧氣超標(biāo)保護(hù),一旦氧氣含量超過10%,系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)停機(jī)。顆粒溫度的控制關(guān)鍵在于控制污泥在干燥器內(nèi)的停留時(shí)間,必須保持干泥中適量的水分,以避免污泥過熱而燃燒,所以當(dāng)污泥達(dá)到一定的干度( 如90%) 就需離開干燥器。這也使解決污泥在設(shè)備內(nèi)的粘結(jié)問題顯得尤為重要。對(duì)于粉塵的控制,采用干料返混的干燥工藝較好,而對(duì)于那些產(chǎn)生粉狀產(chǎn)品的間接加熱設(shè)備則需注意這個(gè)問題。另外污泥干化廠還需考慮其它的安全因素: 設(shè)計(jì)有濕污泥倉(cāng)的工廠,必須考慮的產(chǎn)生而盡量減少濕泥的貯存時(shí)間,在安德里茲的設(shè)計(jì)中將濕泥倉(cāng)中濃度控制在1%以下; 干泥倉(cāng)的安全同樣受到重視,為防止自燃,干泥顆粒的溫度必須控制在40℃以下。