塑料真空鍍膜機(jī)成品和性能介紹

真空鍍膜機(jī)是一種、多功能、全自動(dòng)式真空鍍膜機(jī)。具有結(jié)構(gòu)合理，成膜質(zhì)量好、抽速大、膜層均勻、生產(chǎn)、工作同期短、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)

塑膠真空鍍膜制膜種類(lèi)：半透明膜、不導(dǎo)電膜、金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等

塑膠真空鍍膜成品有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。

塑膠真空鍍膜機(jī)即采用蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備裝置，應(yīng)用于各類(lèi)小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、汽車(chē)、音響、反光杯、化妝品、玩具等塑膠制品行業(yè)。各類(lèi)塑膠制品經(jīng)過(guò)該類(lèi)鍍膜設(shè)備表面處理后具有非常美觀(guān)的裝飾性能。塑膠真空鍍膜機(jī)主要用于再給予處理的塑料，金屬、燈具、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等。從而獲得光亮、美觀(guān)、廉價(jià)的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于各種塑料玩具、塑料日用裝飾品、人造首飾、圣誕裝飾品、家用電器裝飾、電器儀表裝燈的表面金屬化鍍膜。

鍍膜PVD真空鍍膜設(shè)備在涂層鍍膜應(yīng)用

PVD真空鍍膜設(shè)備在工具涂層鍍膜方面能夠大幅度的延長(zhǎng)產(chǎn)品的使用壽命。例如，在車(chē)刀、銑刀、刨刀、鉆頭等車(chē)削刀具上鍍過(guò)PVD膜層后，其使用壽命能夠提高5~40倍。同時(shí)由于PVD膜層的非常細(xì)膩及摩擦系數(shù)小的特點(diǎn)，機(jī)床的車(chē)削速度和被加工表面的光潔度也都有很大的提高。這使得生產(chǎn)企業(yè)的效率大幅提高，其產(chǎn)品的加工精度和外觀(guān)也得到了改善，能夠?yàn)槠髽I(yè)帶來(lái)更多的效益。

到現(xiàn)在PVD鍍膜技術(shù)已在建筑材料、五金器具、鎖具五金、廚房衛(wèi)浴、五金鐘表、和工具加工等行業(yè)得到了廣泛而深入的應(yīng)用，為這些行業(yè)帶來(lái)了可觀(guān)經(jīng)濟(jì)效益的同時(shí)也增強(qiáng)了它們的發(fā)展?jié)摿Α?

今天越來(lái)越多的制造業(yè)、建筑業(yè)和設(shè)計(jì)業(yè)的工程師都非常認(rèn)可這些PVD離子鍍膜產(chǎn)品效果、特性和優(yōu)勢(shì)。

真空鍍膜機(jī)玻璃阻斷熱輻射什么

性能高的節(jié)能玻璃需要通過(guò)真空磁控濺射工藝在玻璃表面依次鍍上厚度為納米級(jí)的10多層金屬和非金屬薄膜，使玻璃對(duì)光譜具有選擇性透過(guò)功能，能透過(guò)大部分可見(jiàn)光，不影響采光，又能阻擋紅外、遠(yuǎn)紅外、紫外光，阻斷熱輻射，生產(chǎn)技術(shù)極為復(fù)雜。大面積真空鍍膜技術(shù)和以此為基礎(chǔ)的鍍膜設(shè)備制造業(yè)長(zhǎng)期被國(guó)外公司壟斷，單條生產(chǎn)線(xiàn)的技術(shù)引進(jìn)和設(shè)備進(jìn)口費(fèi)用高達(dá)1.5億元。采用這一工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品不僅克服了目前低輻射鍍膜玻璃普遍存在的膜層易脫落、易氧化、不能熱加工等不足，而且具有可鋼化，鍍層暴露在大氣中3個(gè)月以上不氧化、可異地加工等優(yōu)異性能。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對(duì)于高反壓功率管來(lái)說(shuō)，它的工作電壓高，電流大，沒(méi)有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過(guò)高，易燒毀。對(duì)于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線(xiàn)困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過(guò)厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。