鋁及鋁合金的化學(xué)拋光。為獲得光亮的表面，必須嚴(yán)格控制拋光液xiao酸的含量。xiao酸含量過低，拋光速度慢且拋光后表面光澤性差;xiao酸含量過高，容易發(fā)生鱗狀腐蝕。lin酸濃度低時(shí)，不能獲得光亮的表面，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表面應(yīng)干燥。醋酸和liu酸可以抑制點(diǎn)狀腐蝕，使拋光表面均勻、細(xì)致。liu酸銨和尿素可以減少氧化氮的析出，并有助于改善拋光質(zhì)量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表面的均勻性，但含量過高又會(huì)降低拋光表面的反光能力。鉻酐可以提高鋁鋅銅合金的拋光質(zhì)量，含鋅、銅絲高的強(qiáng)度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中，難以獲得光亮的表面。

拋光加工的機(jī)理

拋光切削加工、塑性加工和化學(xué)作用的綜合過程。 微細(xì)磨粒進(jìn)行的是切削加工，摩擦引起高溫而產(chǎn)生擠擦工件表面層的是塑性加工，拋光劑的介質(zhì)在溫度和壓力作用下與金屬表面層發(fā)生的是化學(xué)作用。

拋光加工的種類

1、機(jī)械拋光：機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法

2、化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。

3、電解拋光：電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。

4、超聲波拋光 ：將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。

5、流體拋光 ：流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。

多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時(shí)不易對(duì)研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。