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現(xiàn)在有一種涂層技術(shù)已逐漸應(yīng)用到手表上,工藝上講為PaCVD,屬于CVD的一種。這種技術(shù)先是應(yīng)用到F1方程式車上,因為這種涂層更注重外觀色澤,也叫裝飾涂層。因高溫會使手表變形,所以它的氧化溫度只有攝氏300度,但它的硬度非常高,達到4000(維氏硬度),非常耐磨。
相對PVD工藝,PaCVD工藝應(yīng)用深鍍電源,無需陰極靶材,同時工件在爐膛中無需旋轉(zhuǎn),該工藝為干凈、無污染、可靠和多性能的涂層工藝。并且DLC涂層非常堅硬耐磨,可以說是長時間的不變色,而且顏色也非常好看,非常符合現(xiàn)代的審美觀。
在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜機真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機。
電鍍過程的實質(zhì)是金屬離子還原為金屬晶體而組成鍍層的過程,因此,影響鍍層厚度的因素也就是影響電結(jié)晶過程的因素。今天真空電鍍廠就來給你分析一下:
在與柔性印制板有關(guān)的用途中,在同一線路內(nèi)許多導線寬度差別極大的情況存在這就更容易產(chǎn)生鍍層厚度不均勻,為了預防這種情況的發(fā)生,可以在線路周圍附設(shè)分流陰極圖形,吸收分布在電鍍圖形上不均勻的電流,很大限度地保證所有部位上的鍍層厚薄均勻。因此必須在電極的結(jié)構(gòu)上下功夫。