鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當(dāng)SO42-含量過(guò)高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO42-含量過(guò)低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

鍍鉻層的油附性不好，油很難在完整、光滑的鉻層上形成油膜，當(dāng)潤(rùn)滑不好時(shí)，局部易出現(xiàn)干摩擦現(xiàn)象，難以電鍍處既有較高硬度、又有較大厚度的鉻層，一般的鍍鉻修復(fù)工藝包括：鍍銅—鍍鎳—鍍鉻。

需要注意的是，上述修復(fù)流程不可少，也就是說(shuō)直接在模具工作面型鍍鉻，要先鍍銅處理再鍍鎳，后面才是鍍鉻。

在汽車行業(yè)。以日本為首。包括美國(guó)、韓國(guó)等都相繼引入了模具鍍鉻處理，使用后制件的返修率呈現(xiàn)非常明顯降低趨勢(shì)。降低了模具維修的工時(shí)。

真空電鍍產(chǎn)品如何除油？

真空電鍍產(chǎn)品如何除油？

真空電鍍等耐堿性材料的零件可使用強(qiáng)堿性清洗液，真空電鍍除油溫度也可以較高，以便提高除油的效率和速度，而對(duì)鋅、鋁、銅等材料的零件等不能使用等強(qiáng)堿性溶液，溫度也不能太高以免產(chǎn)生腐蝕，真空電鍍?cè)谑褂糜菜渲频乃釅A洗液時(shí)，應(yīng)加入絡(luò)合劑。一般的堿液除油后，真空電鍍零部件的表面尚未達(dá)到表面處理要求的出貨標(biāo)準(zhǔn)，真空電鍍還必須進(jìn)行電解脫脂處理工藝后才能達(dá)到出貨要求或者進(jìn)行下一個(gè)工序。