真空電鍍機(jī)的操作規(guī)范

1.正常工作的真空電鍍機(jī)在開(kāi)動(dòng)時(shí)，需要先將水管打開(kāi)，在真空電鍍機(jī)運(yùn)行之中要時(shí)刻注意水壓的狀態(tài)；

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，要特別注意線(xiàn)路方面的情況，不得觸動(dòng)高壓線(xiàn)頭，以防觸電；

3.在用真空電鍍機(jī)的電子槍的時(shí)候，要在鐘罩的外面圍上一定的防護(hù)措施，在觀察真空電鍍機(jī)內(nèi)部工作狀態(tài)的時(shí)候，需要隔著一定的防護(hù)玻璃，觀察者建議戴上鉛玻璃的研究，以防X射線(xiàn)對(duì)人體造成危害；

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

4.在對(duì)多層介質(zhì)膜進(jìn)行鍍膜時(shí)，要記得安裝好通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)對(duì)有害粉塵進(jìn)行清除；

5.真空電鍍機(jī)的酸洗裝置需在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行操作，且操作時(shí)工作人員應(yīng)戴好橡膠手套；

6.真空電鍍工作完畢之后，應(yīng)進(jìn)行斷水和斷電的操作，防止出現(xiàn)資源浪費(fèi)和設(shè)備意外。

淺談離子鍍膜機(jī)應(yīng)用的幾個(gè)特點(diǎn)

鍍層附著性能好

普通真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常僅為幾百個(gè)埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說(shuō)比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說(shuō)幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說(shuō)普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長(zhǎng)跑運(yùn)動(dòng)員，那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當(dāng)其高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生?？梢?jiàn)附著得多么牢固??！

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

繞鍍能力強(qiáng)

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線(xiàn)方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。

可鍍材料廣泛

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。