真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       首先給大家解釋一下為什么是叫納米鍍膜液，其實這個稱呼是市場上大家自發(fā)形成的一種叫法，因為該產(chǎn)品在手機(jī)屏幕表面附著后，是一層透明的并且是納米級的膜層，所以叫納米鍍膜液是比較符合該產(chǎn)品的特征，另外，這個產(chǎn)品表面附著的原理是通過分子結(jié)構(gòu)的反應(yīng)附著，提升一定致密度，那么，做過和未做前后大的區(qū)別是什么呢？，做過鍍膜的會有疏水疏油，也就是說有防污易潔的效果，市面上有些人會拿大頭筆去畫線來判斷該功能性；第二，做過鍍膜后有很好的爽滑手感，對使用手機(jī)玩游戲時有較好的體驗感；第三，做過鍍膜后，并不會因為膜層影響清晰度和透明度；以上兩幾點(diǎn)是我個人認(rèn)為較大的差異，至于有人拿錘子砸，拿刀片劃等等，這個我個人認(rèn)為是有的嫌疑。

       超聲波霧化噴涂設(shè)備的工作原理是通過將高頻超聲波轉(zhuǎn)變成機(jī)械振動，超聲波霧化噴嘴霧化液滴極其細(xì)小，為微米大小的液滴。這些霧化液滴具有非常精密分布的特點(diǎn)，并且霧化液滴的粒子大小由超聲波工作時的頻率所決定的，頻率越大其霧化液滴粒子月細(xì)小。超聲波霧化噴涂設(shè)備能夠連續(xù)地將功能性液體均勻的分散在被處理器件表面，產(chǎn)生功能性薄膜涂層。

       超聲波霧化噴涂設(shè)備因其霧化噴涂的涂層均勻、致密、超薄，能夠?qū)崿F(xiàn)用少的材料噴涂更多的傳感器，為公司節(jié)約大量成本等優(yōu)勢已逐漸投入市場并大范圍使用。

       派瑞林涂層薄膜的止回閥。微閥具有扭曲型的派瑞林涂層膜, 當(dāng)有流體順流時, 派瑞林涂層薄膜抬起, 允許流體通過; 當(dāng)有流體逆時,派瑞林涂層薄膜封住了通道阻止其流動。該結(jié)構(gòu)的微閥順流沖破壓力小于0. 5 kPa, 逆流的制止壓力達(dá)600 kPa以上, 同時具有較低的反向泄漏, 性能非常好。由于派瑞林涂層較小的楊氏模量, 產(chǎn)生了較大的變形, 基本可以忽略由薄膜引起的流體阻抗。單通道常閉微止回閥, 整個微閥和微通道都是由派瑞林涂層 C制成的, 其結(jié)構(gòu)為在圓形閥座上的一個圓形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的頂部中心, 由于大氣壓強(qiáng)使子腔壓縮到底部, 從而獲得微閥的閉合模式。這種新型的子腔結(jié)構(gòu)是通過沒有層結(jié)構(gòu)的釋放和在真空條件下派瑞林涂層薄膜的氣相沉積來實現(xiàn)的。通過減小密封板和閥座的重疊面積和濺射金屬金來減小靜摩擦力, 從而減小順流沖破壓力。此種結(jié)構(gòu)的微閥的順流沖破壓力為20～40 kPa, 在逆流壓力為270 kPa也不會出現(xiàn)可見的泄露現(xiàn)象。