磁控真空鍍膜機做漸變色原理

現(xiàn)在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現(xiàn)在很多牌子手機殼也應(yīng)用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關(guān)注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設(shè)備，目前華為、聯(lián)想等多款手機漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)有產(chǎn)品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設(shè)備，一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實現(xiàn)終的高品質(zhì)鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結(jié)實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。真空鍍膜機、真空鍍膜設(shè)備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料。

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量；然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來加熱烘烤，爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試，測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內(nèi)溫度高達500℃，如果不冷卻就放氣，沒有被鍍上膜的高溫工件表面會因為與空氣反應(yīng)氧化變成藍色。

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么優(yōu)勢

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍在不銹鋼、硬質(zhì)合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術(shù)具有以下特點：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電；使電弧細碎；旋轉(zhuǎn)速度加快；細化膜層微粒；對帶電粒子產(chǎn)生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實現(xiàn)離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發(fā)源，又是預(yù)轟擊凈化源和離化源。