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如何創(chuàng)建更好的食品凈化工程
現(xiàn)在社會(huì)上出現(xiàn)可很多食品新聞,像現(xiàn)在的嬰11奶粉1問(wèn)題等等,針對(duì)這一問(wèn)題,我們那必須控制在食品生產(chǎn)鏈中“微污染”這個(gè)環(huán)節(jié),“微污染”包括:?jiǎn)T工新陳代謝物、手部細(xì)1菌、車(chē)間環(huán)境細(xì)1菌、地面揚(yáng)塵中霉菌、空調(diào)滋生細(xì)1菌等輕微污染源的總稱(chēng),其中任一點(diǎn)若控制不當(dāng),均可導(dǎo)致食品在保質(zhì)期內(nèi)霉變或腐1敗。8、經(jīng)濟(jì),能增加使用面積,降低地基造價(jià),縮短建設(shè)工期,減少暖氣,空調(diào)成本,達(dá)到節(jié)能效果。因此,上海立凈凈化工程公司提醒您:為了嚴(yán)格控制食品生產(chǎn)過(guò)程中微污染源,請(qǐng)務(wù)必從以下幾點(diǎn)著手:
1、生產(chǎn)過(guò)程中接觸成品的操作必須戴上一次性手套,手套要完整、無(wú)破損、不透水,當(dāng)手被污染后必須按上述洗手消毒程序重新洗手消毒?!?
2、控制工人自身新陳代謝物直接有效的方式為:在生產(chǎn)前換工作鞋、換工作服、戴工作帽、佩一次性口罩,工作衣、帽應(yīng)穿戴整齊,頭發(fā)不得露在衣帽外面,禁止涂口紅、化妝、噴香水、涂指甲油、佩戴任何飾品、手表等。
3、進(jìn)入潔凈室員工,必須要具備有達(dá)成高潔凈度標(biāo)準(zhǔn),并要維持好狀態(tài)的觀念。
4、員工進(jìn)入潔凈室數(shù)目以維持小限度為原則(愈小愈好),并須依潔凈室進(jìn)出標(biāo)準(zhǔn)流程進(jìn)出潔凈室。出則相反方向進(jìn)行,唯不須經(jīng)緩沖通道或風(fēng)淋室脫塵處理。
凈化工程施工中腳手架的使用規(guī)定
1、在高處工作,腳手架的厚度須在50毫米以上并綁牢,斜道板應(yīng)釘好橫木條,嚴(yán)禁以圓木(杉槁)代替木板使用。
2、在高處所搭的腳手架木板連接部分應(yīng)錯(cuò)開(kāi),探頭板長(zhǎng)度不應(yīng)超過(guò)300毫米。
3、高于20米以上的架臺(tái),其周?chē)鷳?yīng)有一米高的欄桿,架臺(tái)底部周?chē)鷳?yīng)有不低于0.1米的擋板,以防滾落物體。
4、在架臺(tái)旁應(yīng)有牢固的梯子,梯凳應(yīng)用直徑4毫米鐵疆綁牢,不許用釘子釘,架臺(tái)所能承受的重量應(yīng)以明顯的木板標(biāo)明,掛在人上下的地方。
5、在超過(guò)5米高的腳手架上工作時(shí),應(yīng)使用安全帶或用外腳手板封檐,工作人員應(yīng)穿軟底鞋,冬季不宜穿塑料底鞋。
6、 高處作業(yè)人員隨身使用的工具及材料,應(yīng)備有工具袋,并注意勿使工具和材料掉下。上下傳遞物體要用繩索,禁止上下拋擲。
7、在帶電設(shè)備附近搭拆腳手架時(shí),應(yīng)停電進(jìn)行,否則必須遵守下列規(guī)定:
(1)、嚴(yán)禁跨越35千伏及以上帶電設(shè)備。水平距離應(yīng)不小于3米;
(2)、10千伏及以下,水平和垂直距離不應(yīng)小于1.0米;
(3)、應(yīng)有電氣工作人員監(jiān)護(hù)。
8、重點(diǎn)部位安全用具的效驗(yàn)規(guī)定
(1)、安全用具不但要正確的使用和保管,還要定期進(jìn)行試驗(yàn)。
(2)、對(duì)電氣絕緣安全用具試驗(yàn)的規(guī)定如下:
用具名稱(chēng) 試驗(yàn)周期 試驗(yàn)電壓 試驗(yàn)時(shí)間
絕緣桿 一年 44千伏 5分鐘
絕緣夾鉗 一年 三倍線(xiàn)電壓 5分鐘
試電筆 半年 40千伏 5分鐘
高壓絕緣手套 半年 8千伏 1分鐘
低壓絕緣手套 半年 2.5千伏 1分鐘
絕緣靴 半年 15千伏 1分鐘
(3)、消防器材除了按期檢查外,還應(yīng)按規(guī)定更換滅火器。保證滅火器的使用效果。
(4)、汽車(chē)吊按有關(guān)部門(mén)的規(guī)定期限和指1定檢修廠家進(jìn)行按期效驗(yàn)、維修。
?潔凈室中的溫濕度控制
濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí),冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。此外,濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉,但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)jia溫度范圍為35—45%。