真空鍍膜機光學(xué)加工工藝發(fā)展情況及未來趨勢，中國的光學(xué)鍍膜零件冷加工在中華民國時期是非常稀少的，到二十世紀(jì)五十年代從蘇聯(lián)和東德國家引進光學(xué)加工技術(shù)，幾乎是過來的。 光學(xué)冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨，古典式拋光。

加工效率低下，同時對操作者的技術(shù)要求較高，每個操作者都要經(jīng)過多年的技術(shù)崗位培訓(xùn)才能正式上崗工作。技術(shù)較好的工人可以從加工毛坯到拋光，獨自完成全線的工作。這時的光學(xué)冷加工主要依靠技術(shù)工人的技能和經(jīng)驗加工零件，而工藝設(shè)計的作用在這個時期不是非常重要的。

總之，化學(xué)氣相沉積就是，利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面上進行化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)沉積物的過程。其過程如下：

（1）反應(yīng)氣體向工件表面擴散并吸附。

（2）吸附于工件表面的各種物質(zhì)發(fā)生表面化學(xué)反應(yīng)。

（3）生成物質(zhì)點聚集成晶核并長大。

（4）表面化學(xué)反應(yīng)中產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物脫離工件表面返回氣相。

（5）沉積層與基體的界面發(fā)生元素的相互擴散，而形成鍍層。

CVD法是，將工件置于有氫氣保護的爐內(nèi)，加熱到800℃以上高溫，向爐內(nèi)通入反應(yīng)氣體，使之在爐內(nèi)熱解，化合成新的化合物沉積在工件表面。在模具的應(yīng)用中，其覆膜厚度一般為6-10μm。

化學(xué)氣相沉積工藝是這樣一種沉積工藝，被沉積物體和沉積元素（單元或多元）蒸發(fā)化合物置于反應(yīng)室，當(dāng)高溫氣流進入反應(yīng)室時，可控制的反應(yīng)室可使其發(fā)生一種合適的化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致被沉積物體的表面形成一種膜層，同時將反應(yīng)產(chǎn)物及多余物從反應(yīng)室蒸發(fā)排除。

化學(xué)氣相沉積（簡稱CVD），也即化學(xué)氣相鍍或熱化學(xué)鍍或熱解鍍或燃氣鍍，屬于一種薄膜技術(shù)。常見的化學(xué)氣相沉積工藝包括常壓化學(xué)氣相沉積（NPCVD），低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD），大氣壓下化學(xué)氣相沉積（APCVD）。