減反射鍍膜:蓋板玻璃反射的環(huán)境光影響用戶視覺體驗,特別是在戶外強光環(huán)境下在移動終端上采用減反射鍍膜,減少56%的反光量。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在后噴一層UV油，東莞電子鍍膜這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時又保證附著力。由于一層膜只能減少特定波長光的反射,減少較寬光譜的光線反射需要多層鍍膜,因而影響減反射膜效果的一個重要技術(shù)指標(biāo)是鍍膜的層數(shù)。鍍膜設(shè)備可以鍍7層減反射膜,具有很好的減反射效果。

減反射鍍膜:鍍膜技術(shù)是公司的核心技術(shù),即將開始減反射鍍膜的布局。

減薄:具有國內(nèi)大和獨有的5G減薄生產(chǎn)能力

Parylene用獨特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優(yōu)勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，裂縫里和內(nèi)表面。

派瑞林英文名：Parylene六十年代中期美國Union Carbide Co. 開發(fā)應(yīng)用的一種新型敷形涂層材料，它是一種聚合物，根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同，Parylene可分為N型、C型、D型、HT型等多種類型。

隨著信息產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，磁性元件越來越趨向于小型化，3-5㎜的軟磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不斷被應(yīng)用，對磁材的防護提出了新的要求。手機真空防水鍍膜機蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理,蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術(shù)，該技術(shù)具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術(shù)成熟、成本低廉等特點。小型軟磁芯作饒線器件時，經(jīng)聚對二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的電壓，由于聚對二摩擦系數(shù)低，饒成操會更滑溜，不傷線，更便于操作，稀土釹鐵硼永磁材料是一種強磁材料，但這種材料在空氣中很不穩(wěn)定，尺寸較大的通常用電鍍或環(huán)氧電泳漆作防護涂層，尺寸較小的磁材，特別是環(huán)型和筒形的磁材，已不能用上述傳統(tǒng)方法實現(xiàn)可靠防護，滿足使用要求。Parylene獨特的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對小型超小型磁材進行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型超小型磁材，幾乎都采用Parylene作絕緣和防護涂層。

市場對OLED顯示器件要求使用壽命大于10000h，而OLED對于水汽、氧氣非常敏感，其有機發(fā)光材料和活潑金屬陰極都很容易和水汽、氧氣發(fā)生反應(yīng)而使器件遭到損壞?，F(xiàn)對其工藝流程作簡要介紹：產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。派瑞林涂層的水汽滲透率非常低，較可靠的將OLED器件與外界的水氧隔絕，保護了發(fā)光材料和活潑金屬陰極，從而提高了OLED的使用壽命。

派瑞林涂層的鍍膜方式為氣相沉積CVD，沉積過程過程主要有三步：

1. 真空130℃條件下固態(tài)派瑞林材料升華成氣態(tài)。

2. 真空680℃條件下，將氣態(tài)雙份子裂解成活性單體。

3. 真空常溫下，氣態(tài)單體在基體上生長聚合。