影響真空絕緣水平的主要因素

電極資料

真空開關(guān)作業(yè)在10-2Pa以上的高真空，因為此刻氣體分子十分稀疏，氣體分子的碰撞游離對擊穿已經(jīng)不起效果，因而擊穿電壓表現(xiàn)出和電極資料有較強的相關(guān)性。

真空空隙的擊穿電壓跟著電極資料的不同而不同，研究者發(fā)現(xiàn)擊穿電壓和資料的硬度與機械強度有關(guān)。一般來說，硬度和機械強度較高的資料，往往有較高的絕緣強度。比如，鋼電極在淬火后硬度進步，其擊穿電壓較淬火前可進步80%。

此外，擊穿電壓還和陰極資料的物理常數(shù)如熔點、比熱和密度等正相關(guān)，即熔點較高的資料其擊穿電壓也較高。比照熱和密度而言亦然。這一問題的實質(zhì)是在相同熱能的效果下，資料發(fā)作熔化的概率越大，則擊穿電壓越低。

磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工、質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作條件好。采用合適的磨料，表面粗糙度可以達到Ra0.1μm 。在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業(yè)中所要求的表面拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應(yīng)該稱為鏡面加工。真空腔體加工的注意事項真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體加工要考慮容積、材質(zhì)和形狀。它不僅對拋光本身有很高的要求并且對表面平整度、光滑度以及幾何度也有很高的標準。表面拋光一般只要求獲得光亮的表面即可。鏡面加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于電解拋光、流體拋光等方法很難控制零件的幾何度，而化學(xué)拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達不到要求，所以精密模具的鏡面加工還是以機械拋光為主。

真空泵

核聚變裝置的10-4Pa量級高真空運行環(huán)境的獲得主要由低溫泵、渦輪分子泵等可獲得超高真空的泵實現(xiàn)。根據(jù)不同功能特點，有3類低溫泵安裝在ITER裝置上。Cryostat低溫泵抽氣系統(tǒng)集成了兩臺超臨界氦氣冷卻低溫吸附泵。200臺分子泵需要滿足不同子系統(tǒng)的應(yīng)用要求。根據(jù)真空度國標真空被分為低真空（100000-100Pa）,中真空（100-0。較低的真空獲得由螺桿泵、羅茨泵和渦旋泵實現(xiàn)。為滿足ITER裝置的環(huán)境條件，包括Edwards和Pfeiffer公司在內(nèi)的真空泵制造商已經(jīng)對真空泵的性能進行了適應(yīng)性調(diào)整。為使Edwards公司生產(chǎn)的渦輪分子泵的磁場容限適用范圍更為寬泛，磁場容限增強型nEXT400分子泵采用了16mm壁厚的馬氏體不銹鋼整體泵腔結(jié)構(gòu)，導(dǎo)熱基板的空氣冷卻結(jié)構(gòu)，超高真空陶瓷引電和金屬密封裝置，以及耐輻射密封元件優(yōu)化等多項新技術(shù)，實現(xiàn)了160mT磁場條件下可靠運行。