Parylene的熱分解起源于苯環(huán)兩側(cè)的C-C鍵，通過將二上的H原子替換為F原子，就得到HT型Parylene，目前還未商品化，但HT型所擁有的大于420的使用溫度和的介電常數(shù)，使其在航空及半導(dǎo)體領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景尖銳的棱邊，裂縫里和內(nèi)表面。

      Parylene采用了一種獨(dú)特的化學(xué)氣相沉積工藝（CVD）。CVD工藝早應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)的外延生長，整個過程是氣態(tài)反應(yīng)，又在真空條件下進(jìn)行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達(dá)到其它方法難以實現(xiàn)的同形性。

       作為涂層，Parylene的超薄、無孔隙、均勻、同形性好、耐腐蝕、與人體組織及血液相容等一系列優(yōu)點，使其在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，Parylene不僅提供了惰性、生物相容的隔離層，可有效防止外界的化學(xué)品、水分和體液的侵蝕，同時增加了器件表面的干潤滑性和絕緣性能。

      Parylene用獨(dú)特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優(yōu)勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括這種室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應(yīng)力、不含助劑、不損傷工件、有優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性，是當(dāng)代的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。

       1、光學(xué)特性：Parylene在可見光的范圍內(nèi)吸收得很少，因此是透明無色的。無色透明的薄膜可用于光學(xué)器件、可擦性光電儲存器件和靜電復(fù)印器件。在低于280微米時，Parylene  N 和Parylene C 的吸收都很強(qiáng)。

       2、性和氣候變化抵抗能力：在真空中，Parylene N,C和D薄膜表現(xiàn)出很高的抵抗伽瑪射線衰變的能力。張力和電氣性能在1.6Mr/h的劑量率下加到100Mr之后仍舊保持不變。雖然Parylene在室內(nèi)穩(wěn)定，但建議不要在室外陽光直接照射的環(huán)境下長期使用。