物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

鈍化是將金屬置于（亞、、鉻酸鹽）或者（重鉻酸鹽）溶液中處理，使金屬表面生成一層鉻酸鹽鈍化膜的過(guò)程，又稱鉻酸鹽處理。

鉻酸鹽鈍化膜主要有三價(jià)鉻與六價(jià)鉻的化合物以及基體金屬的鉻酸鹽組成。外觀隨合金成分、膜厚而變化，可由無(wú)色到彩虹色或棕黃色。膜層具有良好的耐蝕性和裝飾性；膜層緊密，與基體結(jié)合較好，對(duì)基體金屬可起到隔離保護(hù)作用。膜中的三價(jià)鉻不溶于水，構(gòu)成膜的骨架，使膜有較高的強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性。而六價(jià)鉻是可溶性的，在膜中起填充作用，在潮濕的大氣中，即使膜被劃傷，六價(jià)鉻也能溶于水生成鉻酸鹽，使劃傷處重新鈍化而具有自愈合能力。

化學(xué)處理：化學(xué)處理包含了發(fā)黑處理、磷化處理，金屬的表面改性也稱表面優(yōu)化，便是借助離子束、激光、等離子體等新技能方法，轉(zhuǎn)變材料表面及表面的組分、布局和性質(zhì)，從而得到用傳統(tǒng)的冶金和表面處理技術(shù)無(wú)法得到的新薄層材料，或使傳統(tǒng)材料具有更好的性能。現(xiàn)代先進(jìn)的表面改性技能主要有物理氣相沉積(簡(jiǎn)稱PVD)、化學(xué)氣相沉積(簡(jiǎn)稱CVD)、等離子體化學(xué)氣相沉積(簡(jiǎn)稱PCVD)、離子注入和離子束沉積。