電鍍是一種電化學(xué)和氧化還原的過程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽極，接通直流電源后再制件上就會(huì)沉積出金屬鍍鎳層。

電鍍方法分為普通電鍍和特種電鍍。

氣相沉積

化學(xué)氣相沉積（CVD）

化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。

由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機(jī)械制造、航空航天、交通運(yùn)輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。

【金屬表面組織強(qiáng)化】

表面組織強(qiáng)化方法是用機(jī)械、物理或化學(xué)等方法來改善材料表面的形貌、微觀組織結(jié)構(gòu)、缺陷狀態(tài)或應(yīng)力狀態(tài)，目的是使原來基體表面層（0.3-3 μm深度）獲得如下強(qiáng)化組織的一種或幾種：1）增加表面晶體缺陷（如位錯(cuò)密度等），2）獲得壓應(yīng)力狀態(tài)表層，3）表面形成硬化組織（如馬氏體等），4）表面晶粒細(xì)化或微晶化，5）表面非晶化。這種處理工藝主要包括切削、磨削、拋光、噴丸、噴砂、超音振蕩、感應(yīng)加熱、表面淬火、激光蝕刻等。另外還有部分化學(xué)處理過程也可歸為表面組織強(qiáng)化方法，比如酸、堿處理，處理以及電化學(xué)晶界腐蝕等。

沉積膜層主要指依靠電能、動(dòng)能或熱能，將成膜原子、分子或離子輸送至基體表面，進(jìn)而發(fā)生凝聚形成的膜層。一般而言，形成的涂層化學(xué)成分多樣，可以根據(jù)需求和應(yīng)用不同選擇無機(jī)或有機(jī)成分甚至金屬涂層。由于加工方法的多樣性和差異性，形成的沉積膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度變化也很大。目前形成沉積膜層的方法主要包括噴涂（spraying）、氣相沉積（vapor deition）、溶膠-凝膠法（sol-gel）以及仿生沉積（biomimetic）等。

裝飾性

金屬材料由于本身特性，會(huì)隨著時(shí)間、環(huán)境的變化產(chǎn)生銹蝕等變化，失去金屬本身的光澤。表面處理可賦予金屬材料表面一定的光亮度、色彩度和花紋圖案，對(duì)金屬表面起到美化效果。如激光雕刻、光化學(xué)腐蝕、金屬壓花以及各種表面噴涂等。甚至在一些特殊的金屬裝備表面可以應(yīng)用表面處理技術(shù)，使其表面有效消除反光或吸收光線以利于隱蔽。