20世紀初，不銹鋼被引入到產(chǎn)品設(shè)計領(lǐng)域中，設(shè)計師們圍繞著它的堅韌和抗腐蝕特性開發(fā)出許多新產(chǎn)品，涉及到了很多以前從未涉足過的領(lǐng)域。這一系列設(shè)計嘗試都是非常具有革命性的：比如，消毒后可再次使用的設(shè)備出現(xiàn)在醫(yī)學(xué)產(chǎn)業(yè)中。

不銹鋼分為四大主要類型：奧氏體、鐵素體、鐵素體-奧氏體(復(fù)合式)、馬氏體。家居用品中使用的不銹鋼基本上都是奧氏體。

材料特性：衛(wèi)生保健、防腐蝕、可進行精細表面處理、剛性高、可通過各種加工工藝成型、較難進行冷加工。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

電鍍是一種電化學(xué)和氧化還原的過程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽極，接通直流電源后再制件上就會沉積出金屬鍍鎳層。

電鍍方法分為普通電鍍和特種電鍍。

氣相沉積

化學(xué)氣相沉積（CVD）

化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。

由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機械制造、航空航天、交通運輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。

等離子噴涂

采用由直流電驅(qū)動的等離子電弧作為熱源，將陶瓷、合金、金屬等材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，并以高速噴向經(jīng)過預(yù)處理的工件表面而形成附著牢固的表面層?；瘜W(xué)氣相沉積

利用氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。

溶膠-凝膠法

以適當?shù)臒o機鹽或有機鹽溶液為原料，經(jīng)過水解與縮聚反應(yīng)在基體表面膠凝形成薄膜，最后經(jīng)干燥、煅燒和燒結(jié)獲得一定結(jié)構(gòu)的表面薄膜。