測(cè)試方法：連續(xù)對(duì)鍍膜室抽氣24h這一時(shí)間段之間，測(cè)定出過(guò)程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒(méi)有超過(guò)5％的波動(dòng)，則取zui高測(cè)量表讀數(shù)值作為極限壓力值。二、鍍膜室抽氣時(shí)間的測(cè)定1、試驗(yàn)條件：與上述極限壓力測(cè)定的試驗(yàn)條件的（1）~（4）相同。2、測(cè)試方法：在連續(xù)抽氣的前提之下，待至鍍膜室內(nèi)達(dá)到極限壓力，再將鍍膜室打開(kāi)15min，然后將鍍膜室關(guān)閉，再次將鍍膜室抽氣至規(guī)定的壓力標(biāo)準(zhǔn)，此間這段所需的時(shí)間，就是該設(shè)備的抽氣時(shí)間。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

高精度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵和真空壓力傳感器，真空壓力傳感器設(shè)置于中央真空室內(nèi)；新型高精度真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度，提高了產(chǎn)品加工工藝的重復(fù)性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

離子鍍?cè)谡婵諚l件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能噴涂的塑膠材料都能實(shí)現(xiàn)真空鍍，如ABS,P,PMMA，PET,PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現(xiàn)不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現(xiàn)金色，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區(qū)域。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制