鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量低可使低電流密度區(qū)鍍鎳層灰暗、粗糙；含量高可使低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑，出現(xiàn)海綿狀鍍層。一般光亮鍍鎳液中銅雜質(zhì)含量不允許超過0.01g/L；普通鍍鎳液由于pH值稍高，也不能超過0.3g/L。對少量銅雜質(zhì)鍍鎳液，可用電解法去除（pH＝2左右，Dk＝0.1A/dm2～0.3A/dm2）。較多銅雜質(zhì)可用亞鐵qing化鈉化學(xué)方進行處理：  

   2Cu2＋＋Na4[Fe(CN)6]→Cu2[Fe(CN)6]↓十4Na＋

東莞市天強電鍍廠主營滾鎳，滾鉻電鍍，亮鎳環(huán)保鎳電鍍，滾掛亮錫，啞錫，無電解鎳，化學(xué)鎳電鍍加工。拋光電鍍，硬鉻電鍍模具等。

振動電鍍的滾筒形狀為“圓篩”或“圓盤”狀，滾筒內(nèi)零件的運動靠來自振蕩器的振動力來實現(xiàn)。所以，振動電鍍的滾筒一般被形象地稱作“振篩”。振篩的振動軸向與水平面垂直，則振篩內(nèi)零件的運動方向為水平方向。

振動電鍍的振篩結(jié)構(gòu)和振動軸向與傳統(tǒng)臥式滾筒有著本質(zhì)的區(qū)別，所以會產(chǎn)生與傳統(tǒng)臥式滾鍍迥然不同的效果：

 ①振篩的料筐上部敞開后，徹底打破了傳統(tǒng)臥式滾筒的封閉式結(jié)構(gòu)，消除了滾筒內(nèi)外的離子濃度差。所以，由滾筒封閉式結(jié)構(gòu)帶來的滾鍍的缺陷得到*大程度的改善。例如，鍍層沉積速度快、厚度均勻及零件低電流區(qū)鍍層質(zhì)量好等。

銅板鍍鎳表面處理鍍層光亮度不足

排除方法

(1)補充主光亮劑，相應(yīng)地也需補充助光劑。按工藝要求調(diào)整主鹽及其它組成，增加陽極鎳板。

(2)用稀硫酸調(diào)節(jié)pH，降低溫度至工藝規(guī)范。

(3)酸性鍍銅后應(yīng)徹底洗凈零件，必要時可用稀硫酸除膜。

銅板鍍鎳表面處理電流密度 施鍍電流密度與鍍液的溫度、鎳離子濃度、酸度及添加劑等有密切關(guān)系。常規(guī)鍍鎳都是在常溫和稀溶液條件下進行，其電流密度可取0.5～1.5A/dm2;光亮、快速鍍鎳是在加溫和濃溶液的條件下操作，所采用的電流密度為2～3A/dm2，甚至更高。