液體成分對(duì)微弧氧化的影響

      電解液成分是得到合格膜層的關(guān)鍵因素。溶液溫度對(duì)鋁型材微弧氧化的效果影響1、溫度低時(shí)，氧化工業(yè)鋁型材的生長(zhǎng)速度較快，工業(yè)鋁型材致密，性能較佳。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下，電解質(zhì)濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化電源生產(chǎn)線、微弧氧化電液槽

微弧氧化技術(shù)的內(nèi)容和工藝流程

　　微弧氧化技術(shù)主要針對(duì)對(duì)象是鋁、鎂、鈦等輕金屬以及他們的合金。下面我們一起了解一下鋁合金的微弧氧化技術(shù)與工藝流程。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。鋁及鋁合金材料的微弧氧化技術(shù)內(nèi)容主要包括鋁基材料的前處理；微弧氧化；后處理三部分。鋁合金微弧氧化工藝流程如下：鋁基工件→化學(xué)除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗(yàn)。當(dāng)然微弧氧化的效果，在氧化過程中受多方面因素的影響，折扣要求需要專業(yè)二熟練的操作。鎂合金微弧氧化、鈦合金微弧氧化、微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復(fù)數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長(zhǎng)速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。