真空蒸發(fā)鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發(fā)鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發(fā)結(jié)晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發(fā)過(guò)程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達(dá)一定程度噴射出來(lái)的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來(lái)源為離子，并且微粒飛翔過(guò)程中有明顯離子狀態(tài)，并使用磁場(chǎng)控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些 下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級(jí)濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn). 直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由洗艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備 我們?cè)趯?shí)驗(yàn)室中使用的基本上都是小型的鍍膜設(shè)備，下面我們就來(lái)了解一下這種設(shè)備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場(chǎng)所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)裝置，如用行星運(yùn)動(dòng)方式，這種運(yùn)動(dòng)方式成膜均勻性好，臺(tái)階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動(dòng)方式。 排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。