全線水CPU設(shè)備實(shí)際操作：① 以便有利于設(shè)備安裝維修，行為主體頂部與zui大直徑需與別的設(shè)備距離400mm之上。② 禁止在沒有水情況下長期打開設(shè)備。③ 設(shè)備應(yīng)是旁結(jié)構(gòu)式安裝，以考慮在不斷機(jī)狀態(tài)下維修設(shè)備及反沖洗濾體的必須。④ 污水處理率：新系統(tǒng)次應(yīng)用時(shí)，應(yīng)每日反沖洗1～兩次。由于水分子在磁場、電場的作用下減弱了垢鹽離子的結(jié)合，使垢鹽離子形成開垢表面，成為水合離子進(jìn)入水中，使受熱爐壁、管壁上原來的水垢逐漸軟化、疏松、自行脫落，起到除垢的作用。一切正常運(yùn)作后，當(dāng)進(jìn)排水口壓力差做到0.03～0.06Mpa時(shí)開展反沖洗。環(huán)境污染比較嚴(yán)重的系統(tǒng)軟件，應(yīng)選用氣、水混和反沖洗。⑤ 反洗：開啟主桿閥，排污閥，關(guān)掉設(shè)備進(jìn)水閥，開展反方向沖洗濾體。反洗時(shí)間視水體狀況而定，一般狀況下為三十秒上下。⑥ 復(fù)生濾體后入排水口壓力差修復(fù)到原壓誤差、打開進(jìn)水閥、關(guān)掉主桿閥、排污閥、接入220V開關(guān)電源，使設(shè)備一切正常工作中。

    全水CPU產(chǎn)品簡介：關(guān)鍵選用高品質(zhì)碳素鋼發(fā)動(dòng)機(jī)缸體獨(dú)特構(gòu)造不銹鋼網(wǎng)架 高頻率磁場發(fā)生器 電暈場發(fā)生器和下水管道設(shè)備。高頻電磁場使力的滲透力與溶解度增大，并對金屬表面的水垢薄弱環(huán)節(jié)縱向滲透到金屬表面后，開始沿金屬與水垢表面橫向滲透，使水垢呈片狀脫離金屬表面，從而達(dá)到除垢的目的。根據(jù)活性鐵膜，機(jī)械設(shè)備可變性孔隙度天然屏障和電暈效用場三位一體化過濾裝置，吸咐 集中化了各種各樣水系統(tǒng)軟件在操作過程標(biāo)準(zhǔn)下產(chǎn)生的硬度化學(xué)物質(zhì)和復(fù)合型污垢，減少其濃度值，完成操縱污漬和大部分的目地的硬度標(biāo)度。而且超聲波換能器將特殊的頻率磁流體發(fā)電成解決物質(zhì)

一種全自動(dòng)自清洗全程水處理器：一種全自動(dòng)自清洗全程水處理器,其包括罐體、設(shè)置于罐體側(cè)上部的進(jìn)水管、設(shè)置于罐體側(cè)部的出水管和電控系統(tǒng),所述罐體底端設(shè)置有排污口,所述罐體內(nèi)設(shè)置有濾筒,所述出水管與濾筒相通,所述罐體內(nèi)部設(shè)置有中心轉(zhuǎn)軸,所述中心轉(zhuǎn)軸通過連接板與毛刷相連接,所述毛刷與濾筒內(nèi)壁相接觸,所述排污口設(shè)置有排水控制閥。直接與容器管口相連接的大于或等于DN150的閥門下面宜設(shè)置支架。本實(shí)用新型將傳統(tǒng)單一的磁水處理技術(shù)、射頻水處理技術(shù)、化學(xué)水處理技術(shù)有機(jī)結(jié)合,從而克服了單純物理法或者化學(xué)法的技術(shù)缺陷,可節(jié)約化學(xué)藥劑30%的適用量,并且更好的保護(hù)了換熱設(shè)備及其他附屬設(shè)備。

一種全自動(dòng)水處理器：新型公開了一種不僅能滿足井下安全需要,還能生產(chǎn)出合格水質(zhì)的全自動(dòng)水處理器.本實(shí)用新型全自動(dòng)水處理器,包括過濾器,軟水器,所述的過濾器與軟水器連接,所述過濾器前接有安全閥,所述的安全閥前接有減壓穩(wěn)壓閥,所述的軟水器為無電源軟水器.本實(shí)用新型由于在該方案中設(shè)置了減壓穩(wěn)壓閥與安全閥,使高壓力的進(jìn)水降至設(shè)備運(yùn)行所需的正常壓力范圍;無電源軟水器的運(yùn)行不需用電,徹底排除了因用電而引起的對防爆所造成的安全隱患,相比傳統(tǒng)水處理設(shè)備占地面積也比較小,降低了用地成本.