試驗室供氣需求

目前大多數(shù)試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。電子行業(yè)常用的特氣超過三十余種，按危險性質(zhì)可分為不燃氣體、可燃氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏檢測規(guī)定

1、氦檢漏儀表應(yīng)采用質(zhì)譜型氦檢測儀，其檢測精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、閥座測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦檢漏發(fā)現(xiàn)的泄漏點經(jīng)修補后，應(yīng)重新經(jīng)過氣密性試驗，合格后再按規(guī)定進行氦檢漏。所有可能泄漏點應(yīng)用塑料袋進行隔離。系統(tǒng)測試完畢，應(yīng)充入高純氮氣，并進行吹掃。測試完畢后，應(yīng)提交測試報告。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對氣體中雜質(zhì)和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。氣體管路控制系統(tǒng)作用主要由氣源切換系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、調(diào)壓系統(tǒng)、用氣點、監(jiān)控及報警系統(tǒng)組成。