控制好系統(tǒng)張力，開啟冷卻系統(tǒng)，避免薄膜受熱出現(xiàn)拉伸變形；精準(zhǔn)控制卷取速度、送鋁速度及蒸發(fā)舟加熱電流，以獲得產(chǎn)品要求的鋁層厚度；可預(yù)先在薄膜上涂布一定干量的底膠，并充分干燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結(jié)合力。而后在鋁膜上涂布一定量的保護(hù)樹脂，防止鋁層氧化變質(zhì)。經(jīng)此工藝形成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易變質(zhì)。


真空鍍膜主要利用輝光放電將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的亞氣離子化, 造成靶與亞氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電將亞氣離子撞擊靶材表面。


真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.