不同燒結(jié)溫度下，通過鐵基結(jié)合劑胎體對(duì)金剛石的把持力系數(shù)的變化可以看出：未鍍和鍍鈦金剛石的把持力系數(shù)隨燒結(jié)溫度的升高有相同的變化規(guī)律，在730 °C 時(shí)把持力系數(shù)。在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結(jié)晶化,并使晶格缺陷減少。在不同的燒結(jié)溫度下，鍍鈦金剛石節(jié)塊的把持力系數(shù)均高于未鍍的，說明金剛石表面鍍鈦后，胎體對(duì)金剛石的把持能力提高，即胎體與金剛石間的結(jié)合強(qiáng)度增加。此外，把持力系數(shù)與燒結(jié)溫度之間沒有線性關(guān)系。

點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點(diǎn)電子槍結(jié)構(gòu)復(fù)雜，造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解，化學(xué)比失調(diào)

3激光蒸發(fā)鍍膜

采用高能激光束對(duì)材料進(jìn)行蒸發(fā)，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復(fù)雜的合金或化合物，膜層的化學(xué)計(jì)量比與靶材保持一致

缺點(diǎn)

    易產(chǎn)生微小顆粒飛濺，影響薄膜質(zhì)量

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過兩導(dǎo)電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導(dǎo)電性的難熔金屬、石墨等

    會(huì)飛濺出微米級(jí)的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar )，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。九、離子鍍的工藝過程：蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面?！R射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。