ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是專為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。技術(shù)要求：1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為600×450×450mm，不銹鋼材料，方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的真空室結(jié)構(gòu)。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域。

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300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）

樣品臺：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動密封手動控制；

氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

1、在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用:增透膜、反膜、截止濾光片、防偽膜等。

2、在建筑玻璃方面的應(yīng)用:陽光控制膜、低輻射玻璃、 防霧防露和自清潔玻璃等。

3、在防護(hù)涂層中的應(yīng)用:飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

4、在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用:切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

5、在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用:太陽能集熱管、太陽能電池等。

6、在集成電路制造中的應(yīng)用:薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

7、在信息存儲領(lǐng)域的應(yīng)用:磁信息存儲、磁光信息存儲等。

8、在信息顯示領(lǐng)域的應(yīng)用:液晶屏、等離子屏等。

9、在裝飾飾品上的應(yīng)用:手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、 小飾品等鍍膜。

10、在建筑玻璃方面的應(yīng)用:陽光控制膜、低輻射玻璃、 防霧防露和自清潔玻璃等。

11、在防護(hù)涂層中的應(yīng)用:飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

12、在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用:切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

13、在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用:太陽能集熱管、太陽能電池等。

14、在集成電路制造中的應(yīng)用:薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

15、在信息存儲領(lǐng)域的應(yīng)用:磁信息存儲、磁光信息存儲等。

16、在信息顯示領(lǐng)域的應(yīng)用:液晶屏、等離子屏等。

17、在裝飾飾品上的應(yīng)用:手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、 小飾品等鍍膜。