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光學掩模板的應用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個時候的掩膜也可稱為光罩。

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掩膜（MASK）就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統(tǒng)計數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機設計生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進來。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（曝光）。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩模可以是薄膜、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。

按石英含量可分為兩類：①長石石英巖，石英含量大于75%，常含長石及云母等礦物，長石含量一般少于20%。如長石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長石、磁鐵礦等礦物。