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銅川報廢太陽能板回收詢問報價

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發(fā)布時間:2020-11-06 13:11  
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視頻作者:蘇州振鑫焱光伏科技有限公司






電池片的制作工藝

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購:高價回收硅片,電池片,初級多晶硅,銀漿布,單晶硅,多晶硅,太陽能電池,光伏組件,太陽能電池板,客戶撤退,降級,庫存,El,不良測試,二手,舊,工程,拆卸,路燈,拆解電站,拆卸,膠合板,層壓板,無邊界晶體硅,多晶硅,單晶硅,實驗板,債務(wù)償還,返工,光伏模塊回收等。


2. 短路電流

在一定的溫度和輻照條件下,太陽電池在端電壓為零時的輸出電流,通常用 I sc 來表示。

將 PN 結(jié)短路( V=0 ),因而 IF=0 ,這時所得的電流為短路電流 Isc ,顯然有: I sc =  I L   , I sc 與太陽電池的面積大小有關(guān),面積越大,   I sc 越大。 I sc 與入射光的輻照度成正比。

3. 功率點

在太陽電池的伏安特性曲線上對應(yīng)大功率的點,又稱佳工作點。

4. 工作電壓

太陽電池伏安特性曲線上大功率點所對應(yīng)的電壓。通常用 V m 表示

5. 工作電流

太陽電池伏安特性曲線上大功率點所對應(yīng)的電流。通常用 I m 表示

6. 轉(zhuǎn)換效率

受光照太陽電池的大功率與入射到該太陽電池上的全部輻射功率的百分比。   η = V m  I m  / A t

P in 其中 V m 和 I m 分別為大輸出功率點的電壓和電流, A t 為太陽電池的總面積, P in 為單位面積太陽入射光的功率。

7. 填充因子

太陽電池的大功率與開路電壓和短路電流乘積之比,通常用 FF 表示:   FF = I m V m / I sc V oc

I sc V oc 是太陽電池的極限輸出功率, I m V m 是太陽電池的大輸出功率,填充因子是表征太陽電池性能優(yōu)劣的一個重要參數(shù)。

8. 電流溫度系數(shù)

在規(guī)定的試驗條件下,被測太陽電池溫度每變化 1 0 C   ,太陽電池短路電流的變化值,通常用 α 表示。對于一般晶體硅電池   α = 0.1%/ 0 C 。

9. 電壓溫度系數(shù)

在規(guī)定的試驗條件下,被測太陽電池溫度每變化 1 0 C   ,太陽電池開路電壓的變化值,通常用 β 表示。對于一般晶體硅電池   β  = - 0.38%/ 0 C 。    






電池片常見異常情況處理方法

    振鑫焱光伏科技有限責任公司長期購置:天價回收硅片,電池片,初中級多晶硅,銀漿布,單晶硅,多晶硅,太陽電池,太陽能組件,太陽能光伏板,顧客撤離,退級,庫存量,El,欠佳檢測,2手,舊工程項目,拆裝,道路路燈,拆卸發(fā)電廠,拆裝,人造板,層壓板,無界限結(jié)晶硅,多晶硅,單晶硅,試驗板,負債還款,返修,太陽能發(fā)電控制模塊收購等。 

電池片普遍異?,F(xiàn)象解決方式 

堵網(wǎng): 

1、生產(chǎn)車間溫度、環(huán)境濕度與料漿特性緣故:若溫度高、空氣濕度低,料漿蒸發(fā)有機溶劑就迅速揮發(fā)掉,料漿黏度變大,進而堵網(wǎng)。留意:停止時間太長,會造成堵網(wǎng),時間越久越比較嚴重。次之,工作溫度低,料漿流通性差也非常容易堵網(wǎng),因此嚴控生產(chǎn)車間溫度與環(huán)境濕度; 

2、網(wǎng)版:用收醇擦整潔并干躁側(cè)后方能應(yīng)用。若置放時間太久不立即包裝印刷,在儲存過程中就會黏附灰塵; 

3、包裝印刷工作壓力:包裝印刷工作壓力過大,會使刮條彎折,刮條與網(wǎng)版和基鋼板并不是線觸碰,而成面接觸,每一次包裝印刷都不可以將料漿刮整潔而留有殘留料漿,時間長了就會堵網(wǎng); 

4、包裝印刷空隙有問題:很小也非常容易堵網(wǎng);

5、料漿緣故:料漿顆粒物大,要保證充裕的拌和時間。




電池片生產(chǎn)工藝流程

振鑫焱光伏科技有限責任公司長期購置:天價回收硅片,電池片,初中級光伏電池,銀漿布,單晶硅,光伏電池,太陽能電池板,太陽能組件,太陽能光伏板,顧客撤離,退級,庫存量,El,欠佳檢測,二手,舊工程項目,拆裝,道路路燈,拆卸發(fā)電廠,拆裝,人造板,聚酰薄膜,無界限結(jié)晶硅,光伏電池,單晶硅,試驗板,負債還款,返修,太陽能發(fā)電控制模塊收購等。 電池片生產(chǎn)流程 一 、 制絨 a. 目地 在硅單晶的表面產(chǎn)生坑凹狀表面,降低電池片的反射的自然光,提升二次反射的總面積。 一般狀況下,用堿解決是以便獲得金字塔狀磨砂皮;用酸處理是以便獲得蟲孔狀磨砂皮。無論是哪樣磨砂皮,都能夠提升硅單晶的陷光功效。 b.步驟 1. 基本標準下,硅與單純性的HF、HNO 3 (硅表面會被鈍化處理,二氧化硅與HNO 3 不反映)覺得不是反映的。但在二種混和酸的管理體系中,硅則能夠與水溶液開展不斷的反映 。 硅的氧化 氰化鈉/亞硝酸(HNO 2 )將硅氧化成二氧化硅(關(guān)鍵是亞硝酸將硅氧化) Si 4HNO 3 =SiO 2 4NO 2 2H 2 O (慢反映 3Si 4HNO 3 =3Si


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