硫酸含量在180~240g/L之間，硫酸銅含量在75g/L左右，鍍液中存在微量氯離子，可作為輔助光亮劑和銅光亮劑發(fā)揮光澤作用。銅光亮劑的加入量為3/5ml/L，加銅光亮劑時(shí)通常采用千安培法，或根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)板的效果，計(jì)算出全板電鍍的電流一般為2A/2分米乘以紙板上電鍍面積，銅缸溫度一般控制在22°32度。

一般來說真空電鍍都要采用防護(hù)方法，非金屬或金屬外表金屬化后的外表怎么采用上色、染色或其他外表精飾處理，以保證外表精飾的效果可以耐久。真空電鍍廠家常用的方法便是外表涂裝，通常是選用透明的涂料對精飾后的外表進(jìn)行防護(hù)。這樣一來既可以堅(jiān)持外表精飾的顏色，又可以提高外表的耐蝕和耐磨功用。但有些涂料本身有必定光澤度，所以這種外表防護(hù)也叫罩光處理。都將影響其裝飾性或防護(hù)效果，鍍層在真空電鍍過程中或在使用時(shí)變色。應(yīng)在電鍍后處置過程中加以注重，妥善處置。鍍層的變色原因主要是鍍層在侵蝕性介質(zhì)(包含空氣)中不耐蝕，外表發(fā)生了氧化或其他化學(xué)反應(yīng)。鍍層的防變色處理，可以在以下幾個(gè)方面加以注意。

真空電鍍生產(chǎn)廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。

電鍍是制造業(yè)不可或缺的基礎(chǔ)工藝。電鍍生產(chǎn)中發(fā)生不良在所難免，不良現(xiàn)象頻發(fā)會影響生產(chǎn)進(jìn)度和產(chǎn)品合格率，形成經(jīng)濟(jì)損失。排除不良是電鍍技術(shù)人員管理的重要內(nèi)容，以下針對相當(dāng)基礎(chǔ)不良現(xiàn)象與原因解析。1．鍍層結(jié)合力不好,結(jié)合力不好一般有下列幾種狀況：(1)底層結(jié)合力不好，該狀況大都是前處理不良、基體金屬上的油污或氧化膜未除盡形成的。(2)打底鍍層成份控制不妥，如堿銅中銅與游離比例不妥，有六價(jià)鉻污染等。(3)前處理工序中的表面活性劑黏附在基體表面未清洗潔凈。(4)腐蝕過度，有些工廠除銹酸的濃度高或不加緩蝕劑也會形成結(jié)合力不佳。