蝕刻標牌生產(chǎn)工藝

蝕刻是金屬表面處理技術(shù)中綜合性很強的一種精飾工藝,涉及到網(wǎng)版印刷、感光油墨、油漆技術(shù)、化工制造等多學科的技術(shù)知識.目前來看,蝕刻工藝在標識標牌、廣告裝飾、電子制造行業(yè)中仍占據(jù)著不可替代的重要地位.其中蝕刻類標牌在日常生活中的應用更是極其廣泛,如評優(yōu)獎牌、單位招牌、門牌、設(shè)備銘牌、機器操作面板、信報箱面板、電梯內(nèi)花板、銅版畫、鏤空名片、打火機刻花、商標條碼等.本文的重點就是詳細講述蝕刻標識、標牌的生產(chǎn)工藝。隨著標牌蝕刻工藝的日臻完善、設(shè)計水平的提高、工藝設(shè)備的更新，蝕刻產(chǎn)品的精度會更上一個臺階，開發(fā)出更為廣泛的應用市場。

什么是蝕刻標牌？

蝕刻標牌也叫腐蝕金屬標牌。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進行加工制做而成的凸字金屬標牌或凹字金屬標牌。

標識：可定義為在不同的時間和空間環(huán)境里，采取立、掛、吊、粘等安裝方式，有一定制作標準的質(zhì)地多樣的，通過文字圖形表達方位功能或信息功能的識別裝置。大型的標牌制作很難用照相法或絲網(wǎng)印刷法制板，因為底板的制作和曝光難度都很大，很難一次制成。標識蝕刻主要以標示牌為主，表現(xiàn)形式也是各不相同，有的由于用于指示向?qū)?，有的用于交通指示，今天就和小編一起來看看標識蝕刻的世界吧。

蝕刻法，即通過光化學反應和蝕刻來加工金屬零件的一種工藝。不銹鋼蝕刻標牌規(guī)格工藝：不銹鋼蝕刻標牌是在物件表面通過化學的方法，腐蝕出各種花紋圖案。該工藝充分利用當前先進的計算機輔助設(shè)計技術(shù)，將需要加工的圖形制成菲林，然后將菲林圖形通過光化學反應到金屬材料表面，在金屬材料表面形成被保護起來的金屬零件圖形，再通過蝕刻的方法，把未保護的金屬材料蝕掉就產(chǎn)生出了金屬零件。

蝕刻法與傳統(tǒng)的機械沖制方法相比，具有生產(chǎn)周期短（一般3天可以制造出產(chǎn)品），修改尺寸方便快捷的優(yōu)點。而機械沖制方法必須具備的沖制設(shè)備和模具加工設(shè)備，開發(fā)周期要2至3個月。

由于蝕刻法的特殊性，零件的復雜程度與加工難易程度無關(guān)。相對而言，機械沖制方法對復雜的零件處理起來往往會增加制造難度，有的甚至無法加工。采用蝕刻方式制作的標牌在儀器、儀表標牌、設(shè)備編號牌等領(lǐng)域都有很好的應用。蝕刻法制造僅需設(shè)計制作菲林（感光膠等），新品開發(fā)費用少；蝕刻法制造的金屬零件刺，不改變材料的磁特性，加工后的產(chǎn)品平整度不受絲毫改變。

條寬損失 (Etch bias) 過蝕刻 (Over etch) – 在平均膜厚完全蝕刻掉以后的額外蝕刻。補償蝕刻速率和膜厚的不均勻 性。 殘留物 (Residues) – 在蝕刻和平版印刷過程中無意留下的物質(zhì)。在噴淋面的邊緣處,這種情況尤為突出,其噴射力比垂直噴射要小得多。 微掩膜（Micro-masking）-- 由于微粒，薄膜摻雜以及殘留物產(chǎn)生的無意留下的掩膜。 糊膠（Resist reticulation）-- 溫度超過 150 攝氏度時光刻膠產(chǎn)生的燃燒和折皺。 縱橫比（Aspect ratio）-- 器件結(jié)構(gòu)橫截面深度和寬度的比率。

化學蝕刻（Chemical etching）-- 氣態(tài)物質(zhì)（中性原子團）與表面反應， 產(chǎn)物必定易揮發(fā)，也稱為等離子蝕刻。 等離子增強蝕刻(Ion-enhanced etching)—單獨使用中性原子團不能形成易揮發(fā)產(chǎn)物，具有一定 能量的離子改變襯底或產(chǎn)物；具有一定能量的離子改變襯底或產(chǎn)物層，這樣，化學反應以后 能生成揮發(fā)性物質(zhì)，亦稱為反應離子蝕刻（RIE） 。 濺射蝕刻（Sputter etching）--具有一定能量的離子機械的濺射襯底材料。 蝕刻速率（Etch rate）--材料的剝離速率，通常以?/min，?/sec，nm/min, um/min 為單位計 量。因基板的邊緣位置比中心部位蝕刻得更快,故很難做到同時使全部蝕刻都干凈。 各向同性蝕刻（ Isotropic etch）-- 蝕刻速率在所有方向都是相同的。