鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結(jié)合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護(hù)金屬膜層的作用。

真空鍍膜設(shè)備對(duì)底涂層有何要求。

1、對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時(shí)間短。

真空鍍膜的操作規(guī)程

1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，須先開(kāi)水管，工作中應(yīng)注意水壓。

2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。

3．在用電子槍鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃。

4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。

8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

真空鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜機(jī)常見(jiàn)問(wèn)題：真空鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜機(jī)其工作原理是在真空狀態(tài)下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結(jié)合牢固，利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。適合于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)，具有很好的發(fā)展前景。