直讀光譜實(shí)驗(yàn)室安裝條件要達(dá)標(biāo)

① 實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對(duì)濕度控制在20%-80%，確保無腐蝕性氣體。    

② 氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強(qiáng)值，分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。

③ 輸入實(shí)驗(yàn)室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動(dòng)范圍控制在－5%～＋5%以內(nèi)。

做好樣品分析準(zhǔn)備。    設(shè)備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?，過濾量要在三分之一，氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個(gè)小時(shí)。激發(fā)試樣看激發(fā)點(diǎn)是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。

正確進(jìn)行樣品分析。    

認(rèn)真制備試樣  樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。  

激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺(tái)激發(fā)3次，刪除異常點(diǎn)，留三組數(shù)據(jù)取平均值。

做好直讀光譜儀的維護(hù)保養(yǎng)。    

要按時(shí)清潔儀器可見光透鏡和紫外光透鏡，定期檢查更換排氣瓶的水量，定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。    

定期清潔火花臺(tái)，樣品激發(fā)的過程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺(tái)上，久而久之大量粉末沉積，降低兩電極之間的絕緣性能，影響激發(fā)效果。

從事直讀光譜儀的這些年里，經(jīng)常會(huì)碰到客戶問：為什么直讀光譜儀需要配置標(biāo)準(zhǔn)樣品？直讀光譜儀不是直接測(cè)量產(chǎn)品就應(yīng)該很準(zhǔn)確的嗎？為什么還需要標(biāo)準(zhǔn)樣品去校準(zhǔn)？等等一系列問題。這些問題都涉及到標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，針對(duì)這些問題，想和大家分享一下關(guān)于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的知識(shí)。

在日常生產(chǎn)過程、實(shí)驗(yàn)研究、科學(xué)探索等各行各業(yè)，其實(shí)我們都能見到人們運(yùn)用各種各樣的儀器儀表、測(cè)量用具。那么怎樣保證和衡量這些設(shè)備是否可靠準(zhǔn)確的運(yùn)行，這其中必然會(huì)有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的參照物來做參考和對(duì)比，那么這個(gè)參照物也可以簡(jiǎn)單的定義為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。

標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)（RM）是具有一種或多種足夠均勻和很好的確定了特性，用以校準(zhǔn)測(cè)量裝置、評(píng)價(jià)測(cè)量方法或材料賦值的一種材料或物質(zhì)。 注：一種標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)可以是純的或者混合的氣體、液體或固體。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。