電鍍是一種電化學(xué)和氧化還原的過(guò)程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽(yáng)極，接通直流電源后再制件上就會(huì)沉積出金屬鍍鎳層。

電鍍方法分為普通電鍍和特種電鍍。

氣相沉積

化學(xué)氣相沉積（CVD）

化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。

由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機(jī)械制造、航空航天、交通運(yùn)輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。

沉積膜層主要指依靠電能、動(dòng)能或熱能，將成膜原子、分子或離子輸送至基體表面，進(jìn)而發(fā)生凝聚形成的膜層。一般而言，形成的涂層化學(xué)成分多樣，可以根據(jù)需求和應(yīng)用不同選擇無(wú)機(jī)或有機(jī)成分甚至金屬涂層。由于加工方法的多樣性和差異性，形成的沉積膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度變化也很大。目前形成沉積膜層的方法主要包括噴涂（spraying）、氣相沉積（vapor deition）、溶膠-凝膠法（sol-gel）以及仿生沉積（biomimetic）等。

80 年代又開(kāi)發(fā)了磷酸鋯和磷酸鈦配方，被廣泛應(yīng)用于易拉罐表面鈍化。其無(wú)鉻鈍化產(chǎn)品Alodine(阿洛丁)5200 的處理時(shí)間為5 ~ 120 s，溫度20 ~ 30 °C，處理液pH 為3.0 ~ 3.6，所獲得的涂層由30% ~ 40%的鋯(鈦)鹽、25% ~ 35%的鋁的氧化物、5% ~ 15%的鋁的氟化物和2% ~ 30%的有機(jī)聚合物組成。其特點(diǎn)是：無(wú)重金屬，降低了污水處理的成本，減少了重金屬對(duì)環(huán)境的污染，改善了操作工人的作業(yè)環(huán)境；基于鋯鹽和鈦鹽以及聚合物等，取代了重金屬鈍化膜；室溫處理，節(jié)約能源；鈍化時(shí)間短，提高了生產(chǎn)效率；既可用于噴淋也可用于浸漬；為有機(jī)涂層提供了的基底。

鋯鈦體系目前在鋁罐、室內(nèi)散熱器和鋁輪轂等方面已獲得了應(yīng)用，但其耐蝕性能仍低于鉻酸鹽膜，而且經(jīng)此工藝處理后的轉(zhuǎn)化膜沒(méi)有顏色，給工業(yè)生產(chǎn)帶來(lái)了一定的困難，因而在高耐候性和高耐蝕性要求的產(chǎn)品上還很少應(yīng)用。