大家在使用鍍鎳砂時一個主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩(wěn)定，由此導(dǎo)致上砂質(zhì)量的波動。不穩(wěn)定的一個主要原因是砂的退鍍，那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢？可能這篇文章能給你一些答案。

鍍鈦砂和鍍鎢砂，都屬于高耐腐蝕砂，鍍層穩(wěn)定。比如，日本使用鍍鈦砂，耐久性2-3個月，有利于產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定和產(chǎn)線的自動化。

鍍W砂，W與金剛石界面形成W2C化學(xué)鍵合，而且W-Ni相容性優(yōu)異，有利于砂與基線鍍層的結(jié)合，所以鍍W砂也是很有潛力的線鋸原材料。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負(fù)電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

受到電場力的吸引，接下來氮的陽離子會向飛向陰極即靶材附近，而電子則會飛向引弧針，但是由于離子的質(zhì)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于電子，因此在受到相同電場力的情況下，電子的移動距離會大于陽離子的移動距離，于是當(dāng)電子到達(dá)陽極時，離子將不會到達(dá)陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽離子與陰極靶面的距離很小，可達(dá)微米級。根據(jù)E=U/d，可知此時空間中的電場強度極高，這種極強的電場會把靶材中的電子“扯”出來。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。