光氧除味設(shè)備想要達到理想的工作效率，在設(shè)計原理上不斷引進高新技術(shù)，不斷的讓設(shè)備技術(shù)在進步，光氧化催化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，使H2O2分解產(chǎn)生自由基的速率大大加快，促近有機物的氧化去除。

uv光氧凈化器設(shè)備利用特殊的高能，高臭氧紫外線紫外線來照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)，并導(dǎo)致有機或無機高分子惡臭化合物的分子鏈降解。在高能紫外線光束（例如CO2，H2O等）的照射下，形成低分子化合物。

低溫等離子體是物質(zhì)在固態(tài)，液態(tài)和氣態(tài)之后的第四種狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被分解以產(chǎn)生包括電子，各種離子，原子和自由基的混合物。盡管在放電期間電子溫度高，但是重顆粒的溫度非常低，并且整個系統(tǒng)呈現(xiàn)出低溫狀態(tài)，因此被稱為低溫等離子體。污染物的低溫等離子體降解是利用這些高能電子，自由基和其他活性顆粒以及廢氣中的污染物，使污染物分子在很短的時間內(nèi)分解，并隨后進行各種反應(yīng)以實現(xiàn)降解。污染物的目標(biāo)。

UV光氧除味設(shè)備報價工作原理

①、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有好的清除效果。惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出機外。

②催化劑（二氧化鈦）在受到紫外線光照射時生成化學(xué)活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料，在徹底分解有機污染物和殺滅菌的同時，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的殺菌、降解污染物效果。