一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X熒光測(cè)厚儀可調(diào)整測(cè)量位置，非常敏捷快速?；蚴菧y(cè)量位置已完成登陸時(shí)，可連續(xù)自動(dòng)測(cè)定，利用座標(biāo)補(bǔ)正、連結(jié)頻道，來(lái)應(yīng)付各種測(cè)量軌跡。亦可用自動(dòng)測(cè)定來(lái)作標(biāo)準(zhǔn)片校正。

　　測(cè)定部顯示盡像的表示：X線照射部可由WINDOWS畫(huà)面上取得照射部的表示。從準(zhǔn)儀照射測(cè)定物的位置，可由倍率率更機(jī)能來(lái)實(shí)現(xiàn)盡面上測(cè)出物放大。。。

一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

 在我們的售前服務(wù)工作中，客戶通常都會(huì)拿一些在其它機(jī)構(gòu)或者儀器測(cè)量過(guò)的樣品來(lái)與我們儀器進(jìn)行測(cè)試結(jié)果對(duì)比，在確認(rèn)雙方儀器都是正常的情況下，會(huì)存在或多或少的差異，那么我們務(wù)必要把這個(gè)差異的來(lái)源分析給客戶，我們?cè)诜治鲋笆紫纫o客戶解說(shuō)測(cè)試的基本原理，告知此儀器為對(duì)比分析測(cè)試儀器，然后再談?wù)`差來(lái)源，主要來(lái)源：

  1、標(biāo)樣：對(duì)比分析儀器是要求有越接近于需測(cè)試樣品的標(biāo)樣，測(cè)試結(jié)果越接近實(shí)際厚度。確認(rèn)雙方有沒(méi)有在標(biāo)定和校正時(shí)使用標(biāo)樣？使用的是多少厚度的標(biāo)樣？

2、樣品材料的詳細(xì)信息：如Ni/Cu的樣品，如果一家是按化學(xué)Ni測(cè)試，一家是按純Ni測(cè)試；Au/Ni/Cu/PCB樣品，一款儀器受Br干擾，一款儀器排除了Br干擾。

   3、測(cè)量位置、面積：確定在同一樣品上測(cè)試的是否同一位置，因?yàn)闃悠吩陔婂儠r(shí)因電位差不同，各部位厚度是有差異的；確認(rèn)兩款儀器測(cè)量面積的大小有多少差異。

4、樣品形狀：測(cè)量的樣品是否是兩款儀器都可測(cè)量，或者放置位置是否合適，如突出面有無(wú)擋住設(shè)備接收。

鍍層厚度分析儀的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。

X射線和β射線法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量，測(cè)量范圍較小，X射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆

層測(cè)厚時(shí)采用。

江蘇一六儀器    X射線熒光光譜測(cè)厚儀

產(chǎn)品配置

X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為：X射線管，正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器，高清攝像頭，高度激光，信號(hào)檢測(cè)電子電路。

性能指標(biāo)

X射線激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)

空冷式微聚焦型X射線管，Be窗

標(biāo)準(zhǔn)靶材：Rh靶；任選靶材：W、Mo、Ag等

X射線管：管電壓50KV，管電流1mA

可測(cè)元素：CI～U

檢測(cè)器：正比計(jì)數(shù)管

樣品觀察：CCD攝像頭

測(cè)定軟件：薄膜FP法、檢量線法

Z軸程控移動(dòng)高度 20mm