鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

占空比：占空比是指脈沖偏壓的通斷時間比，占空比越大，同一個周期時間內(nèi)偏壓輸出時間越長，增大占空比可以提高離子轟擊的能量，有利于提高膜基結(jié)合力和膜層致密性和膜層的硬度，但會提高工件的溫升；減小占空比有利于抑制打火損傷和降低工件表面的溫度、輝光放電清洗和離子轟擊的效果。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜：磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向，束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高了電子對工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。

真空度：真空度是指處于真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點表現(xiàn)在哪里？真空鍍膜技術(shù)在塑料制品上的應(yīng)用廣泛，真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質(zhì)量輕，不腐蝕等特點，塑料制品應(yīng)用廣泛，但因其缺點制約了擴大應(yīng)用。通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結(jié)合起來，大大提高了它的物理、化學(xué)性能。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內(nèi)，在兩個電極之間加上高壓時產(chǎn)生的放電現(xiàn)象。

濺射鍍膜原理：

濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來達到制取各種薄膜的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內(nèi)，在兩個電極之間加上高壓時產(chǎn)生的放電現(xiàn)象。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：本底真空度:本底真空度越高爐內(nèi)雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應(yīng)氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。它是離子濺射鍍膜的基礎(chǔ)，即離子濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到。