實際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時間確定，正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2，具體以曝光尺為準；線路曝光尺5 --8格，油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光時必須抽真空充分，以免曝光不良，一般要求650mmHg以上真空度；

顯影時，顯影點控制在50 --70%以內(nèi)，壓力1.5--2.0kg/cm2。

曝光過度會導致顯影不凈；曝光能量不足會導致顯影過度。

簡單的講是按暗部曝光按亮部顯影：曝光時候主要考慮暗部的亮度確定曝光，而暗410房顯影的時候是按照亮部1653的層次來控制顯影，這樣可以獲得理想的層次。

藥品方面除非你是專門搞黑白暗房的，現(xiàn)在不可能有多少人準備兩種以上的顯影液了，所以方法很重要，一般如果你有的話，可以使用2號相紙。這樣有利于中間層次的還原。當然如果你就想獲得那種幾何形狀的剪紙感覺的作品你也可以反其道而行之。

顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護劑、促進劑和抑zhi制劑組成.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對本二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產(chǎn)生灰霧.保護劑：無水亞硫酸鈉 在顯影液中Na2SO先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.促進劑：無水碳酸鈉.在顯影中它能產(chǎn)生酸性物質xiu氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.


從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；顯影不良：貼好的干膜后的覆銅箔層壓板經(jīng)曝光之后，還須經(jīng)過顯影機顯影，將未曝光的干膜保持原成份，在顯影機內(nèi)與顯影液發(fā)生下列反應。