淺談鍍鎳電鍍液去除銅雜質(zhì)的方法

　　銅離子是光亮鍍鎳中較常見的雜質(zhì)之一。鍍液受Cu2 污染，會使鍍件低電流密度區(qū)光亮度差，過多的Cu2 還會造成鍍層脆性增大及結(jié)合力不良的弊病。在光亮鍍鎳液中，ρ（Cu2 ）應(yīng)小于0.01g/L。去除鍍液中的Cu2 有以下幾種方法。

　　1）電解法。即用低電流密度使鍍液中的Cu2 沉積在處理陰極板上的方法。用于處理的陰極板有波紋板、鋸齒板和平面板三種型式。波紋板在施加一定電流電解時，陰極板上Jκ范圍較廣，波峰處Jκ較大，波谷處Jκ較小，所以能使Cu2 和其他金屬雜質(zhì)同時沉積，達(dá)到去除多種雜質(zhì)的目的。鋸齒形陰極板受效應(yīng)的影響，電解過程中Ni2 和Cu2 同時沉積，造成鍍液中鎳鹽損失增加。采用平板陰極可以使用不同的Jκ，達(dá)到有選擇地去除金屬雜質(zhì)的目的。大多數(shù)的腐蝕發(fā)生在大氣環(huán)境中，大氣中含有氧氣、濕度、溫度變化和污染物等腐蝕成分和腐蝕因素。據(jù)經(jīng)驗，Jκ為0.5A/dm2時有利于Cu2 在陰極析出。

　　不論采用哪種型式的陰極進行電解處理都應(yīng)注意幾個問題：a.長時間電解處理時，應(yīng)定時清洗電解板，防止電解板上疏松鍍層脫落重新污染鍍液；b.采用陰極移動或空氣攪拌可以提高處理效果；在添加劑擴散控制情況下,大多數(shù)添加劑粒子擴散并吸附在電極表面張力較大的凸突處及特殊的晶面上,致使電極表面吸附原子遷移到電極表面凹陷處并進入晶格,從而起到整平光亮作用。c.電解處理中使用的陽極板必須是的鎳陽極板，否則將影響處理效果，造成不必要的浪費。

　　2）化學(xué)沉淀劑法。常見的有QT除銅劑，該沉淀劑主要成分是亞鐵青化物，在鍍液中與Cu2 生成亞鐵青化銅沉淀，然后過濾出沉淀，達(dá)到去除銅雜質(zhì)的目的。此方法的缺點是需要進行精密過濾，比較費時。

　　3）螯合劑法。螯合劑一般為芳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)的有機物，在鍍液中與Cu2 形成螯合物，由于在電解中，螯合物和Ni2 共沉積，可以使鍍液中ρ（Cu2 ）不至于上升過高。這種方法簡單易行，是目前處理鍍鎳液中雜質(zhì)較好和有效的方法。在應(yīng)用時必須選用的螯合劑，特別是要確保不能對鍍層產(chǎn)生不良的影響。多數(shù)情況下，合金鍍與堿性電鍍屬配合物電鍍，少數(shù)情況下也可從微酸性簡單鹽鍍液中獲得合金鍍層(如鋅–鐵、鋅–鎳、鎳–磷)。

寧波電鍍產(chǎn)品注重的就是外觀

   一般來說塑料電鍍的外觀要求比金屬成品電鍍的要求愈加高，需求愈加亮光，亮度也要好，然則在肯定水平上還有其他差異。接下來就簡略引見下塑料電鍍產(chǎn)物的外觀要求：人間以為，較好的外觀是亮中發(fā)“漆黑”，亮光度視覺感很“厚實”。    這種微觀覺得是由外表的微觀外形所選擇的，也就是說微觀外表必需十分平坦。鍍層不克不及有霧狀存在，極纖細(xì)的霧狀，在強光下或正視時是發(fā)現(xiàn)不了的，要在特定的角度和光線下才干發(fā)現(xiàn)，因而易被無視。至于露塑、脫皮、毛刺、麻點和深鍍差等缺陷，在電鍍中是不允許存在的。C．鹽霧試驗結(jié)果的判定方法有：評級判定法、稱重判定法、腐蝕物出現(xiàn)判定法、腐蝕數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析法。   某些非必需審核部位及背面等各部位都要有鍍層包覆，且榮耀鮮亮，不克不及發(fā)黑、露塑及有夾具拉毛印。

鋁合金難電鍍的原因

     鋁及鋁合金對氧具有高度的親和力,極易生成氧化膜,并且這層氧化膜一經(jīng)除去又會在極短的時間里產(chǎn)生一層新的氧化膜,嚴(yán)重影響鍍層的結(jié)合力。

2、鋁的電極電位很負(fù),浸入電鍍液時容易與具有較正電位的金屬離子發(fā)生置換,影響鍍層結(jié)合力。3、鋁及鋁合金的膨脹系數(shù)比其他金屬大,因此不宜在溫度變化較大的范圍內(nèi)進行電鍍。鋁及鋁合金與其他金屬鍍層膨脹系數(shù)不同將引起較大的應(yīng)力,從而使鍍層與鋁及鋁合金之間的結(jié)合力不牢。三、電鍍液的維護在電鍍制品的生產(chǎn)過程中，除了鍍液主鹽成分的變化外，還有一些雜質(zhì)的不斷積累或是某些情況下的意外侵入。

4、鋁是兩1性金屬,能溶于酸和堿,在酸性和堿性電鍍液中都不穩(wěn)定。

5、鋁合金壓鑄件有砂眼、氣孔,會殘留鍍液和氫氣,容易鼓泡,也會降低鍍層和基體金屬間的結(jié)合力。