金屬帶鍍膜設(shè)備

HCMRC系列采用模塊化設(shè)計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產(chǎn)工具。通過我們各種技術(shù)的獨特組合，可以生產(chǎn)高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應(yīng)用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設(shè)備采用公司新開發(fā)的磁控濺射鍍膜技術(shù)、陰極電弧離子鍍膜技術(shù)及獨特設(shè)計的離子源輔助沉積鍍膜技術(shù)等多種技術(shù)組合，成功應(yīng)用在大卷徑寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設(shè)備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴(kuò)展應(yīng)用范圍。

模塊化設(shè)計概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預(yù)處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線測量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的良好選擇。

鍍膜設(shè)備類型：

—空氣：(1)進(jìn)口和出口區(qū)配備動態(tài)鎖定輥系統(tǒng)，確保帶材不間斷運動(2)帶材緩沖器、連接和分離裝置以及放置于鍍膜機(jī)前、后端大氣中的放卷機(jī)和收卷機(jī)，以保證連續(xù)生產(chǎn)(3)生產(chǎn)周期僅受限于靶材/真空腔體內(nèi)蒸發(fā)物儲存量

—分批式：(1)真空工藝區(qū)入口和出口處連接的卷軸裝載鎖定腔體，使用帶材閥隔開(2)可在不中斷工藝真空的前提下裝載和卸載卷軸(3)生產(chǎn)周期為1卷軸的時間，然后停止，進(jìn)行卷軸更換；帶材廢料長度約為工藝部分的兩倍(4)電子束工藝配備額外的檔板，用以補(bǔ)償卷軸更換

鍍膜模式：單面鍍膜：(1)所有鍍膜工具均位于帶材的一側(cè)(2)使用電子束(EB)工藝時，（一般情況下）帶材的底側(cè)將被鍍膜雙面鍍膜：(1)鍍膜工具均位于帶材的一側(cè)，卷材改變走帶方向(2)需要二次鍍膜與傳動裝置配備

非接觸式鍍膜選項針對敏感的光學(xué)鍍膜，提供非接觸式機(jī)器概念。

鍍膜設(shè)備該選擇哪種主泵配置

有油真空系統(tǒng)基本是以油擴(kuò)散泵為主泵，前級泵采用機(jī)械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴(kuò)散泵的壓力方位比較大，同時抽氣速率非常的高，能夠達(dá)到每秒十幾萬升。其工作能力在業(yè)內(nèi)是數(shù)一數(shù)二的，這也得益于其具有良好的性能。從優(yōu)點上來講，有油真空系統(tǒng)工作可靠，沒有振動，沒有噪音，壽命長，維護(hù)建檔透支費用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點也非常的明顯，就是會形成污染源，大規(guī)格泵在這方面更加的嚴(yán)重。