氣態(tài)的原子、分子在真空中經(jīng)過很少的碰撞遷移到基體。(3)鍍料原子、分子沉積在基體表面形成薄膜。(二)蒸發(fā)源將鍍料加熱到蒸發(fā)溫度并使之氣化，這種加熱裝置稱為蒸發(fā)源。zui常用的蒸發(fā)源是電阻蒸發(fā)源和電子束蒸發(fā)源，特殊用途的蒸發(fā)源有高頻感應(yīng)加熱、電弧加熱、輻射加熱、激光加熱蒸發(fā)源等。(三)真空蒸鍍工藝實(shí)例以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。真空蒸鍍的基本工藝過程如下：(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預(yù)處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學(xué)溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空蒸鍍工藝實(shí)例以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。真空蒸鍍的基本工藝過程如下：(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預(yù)處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學(xué)溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預(yù)處理有除靜電，涂底漆等。(2)裝爐，包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發(fā)源安裝、調(diào)試、鍍件褂卡。(3)抽真空，一般先粗抽至6．6Pa以上，更早打開擴(kuò)散泵的前級(jí)維持真空泵，加熱擴(kuò)散泵，待預(yù)熱足夠后，打開高閥，用擴(kuò)散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜一種通過物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術(shù)。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊要鍍覆的物體表面。這項(xiàng)技術(shù)*首先用于生產(chǎn)光學(xué)透鏡，例如船用望遠(yuǎn)鏡透鏡。后來擴(kuò)展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾涂層和材料表面改性。例如，表殼鍍有仿金，然后對(duì)機(jī)床進(jìn)行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標(biāo)表面擊中ya（Ar）離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質(zhì)和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜，但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制