PVD真空鍍膜設備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結構和工作原理是目前為止應用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應用時間長的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導給PVD鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結構簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結下來。

至成真空十多年來專業(yè)從事各種真空鍍膜應用設備制造，多年來致力于研發(fā)和生產真空鍍膜機，以新技術不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

至成鍍膜機多靶離子束濺射鍍膜機

至成鍍膜機多靶離子束濺射鍍膜機是研究超導、類金剛石、光學、磁性等高質量薄膜和材料表面改性的光機一體化的現(xiàn)代化鍍膜設備。該機采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來，沉積在基片上成膜?？慑冎迫我獠牧?，包括金屬、合金、超導體、半導體、絕緣體等。該機采用80年代剛剛發(fā)展起來的離子束濺射技術，利用雙離子源、主槍，對靶材轟擊，輔槍在鍍前對基片進行清洗，增強基片的活性，提高結合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜，增強沉積原子表面擴散和遷移，減少薄膜結晶結的缺陷，并配有對基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優(yōu)缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全，也不知道具體是應用到哪些行業(yè)，以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術其優(yōu)點是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術要在實現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空電弧離子鍍膜技術

真空電弧離子鍍膜技術不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域。真空鍍膜機鍍膜技術及設備在當今和未來都擁有十分廣闊的應用領域和發(fā)展前景，特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學膜；在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜；在能充分展示和應用各種光學特性的光學膜；在計算機顯示用的感光膜；在TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜；在建筑、汽車行業(yè)上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；在包裝領域用防護膜、阻隔膜；在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜；在工、模具上應用的耐磨超硬膜：在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應的基礎上得到的不斷發(fā)展的領域。