微弧氧化對(duì)鎂合金的好處

       隨著裝備輕量化要求和材料要求的不斷提高，鎂合金因具有低密度、高比強(qiáng)度、高比剛度、優(yōu)異的阻尼減振降噪能力及電磁屏蔽性能等特點(diǎn)在航空航天、裝備等領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見(jiàn)變化，1300℃沖擊5次不脫落、不龜裂。微弧氧化表面處理、微弧氧化技術(shù)、但鎂合金活潑的化學(xué)和電化學(xué)特性使其極易產(chǎn)生腐蝕，嚴(yán)重制約了鎂合金的應(yīng)用。在工程應(yīng)用中，通常采微弧氧化用表面處理來(lái)提高鎂合金的耐蝕性。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

       微弧氧化技術(shù)又稱(chēng)微等離子體氧化或陽(yáng)極火花沉積，實(shí)質(zhì)上是一種高壓的陽(yáng)極氧化，是一種新型的金屬表面處理技術(shù)。微弧氧化應(yīng)用微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng)，主要可用于對(duì)耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強(qiáng)化處理。該工藝是在適當(dāng)?shù)拿}沖電參數(shù)和電解液條件下，使陽(yáng)極表面產(chǎn)生微區(qū)等離子弧光放電現(xiàn)象,，陽(yáng)極上原有的氧化物瞬間熔化,，同時(shí)又受電解液冷卻作用， 進(jìn)而在金屬表面原位生長(zhǎng)出陶瓷質(zhì)氧化膜的過(guò)程。微弧氧化表面處理、微弧氧化、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知，陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti等有色金屬或其合金的表面處理中。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過(guò)3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源